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等离子沉积设备SI 500 D

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北京瑞科中仪科技有限公司一家是专门从事数码光学显微镜及相关实验室设备研发与销售的新型高科技公司,也专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的材料分析解决方案,北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器,以专业能力导向,精细工艺流程,用科学手段解决科研中遇到的难题.彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

公司主要产品包括:生物显微镜、金相显微镜、偏光显微镜、体视显微镜、数码显微镜、显微镜数码相机照相接口、显微镜*冷光源、数码图像分析系统、测量显微镜、三座标测量显微镜,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机

公司经销代理品牌包括:蔡司显微镜,奥林巴斯显微镜,尼康显微镜,徕卡显微镜,国产各厂家显微镜, 华粤行 ,基恩士 , 日本电,日立 ,布鲁克,三和联, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(铂金埃尔默)全系产品 ,天美爱丁堡,原子光谱,气相色谱,PE(铂金埃尔默)全系产品

代理经销的产品种类包括,荧光显微镜,荧光显微成像系统,激光捕获显微切割,全自动切片扫描,三维超景深显微系统,动物超声系统,3D超景深显微镜,形貌探测显微镜,蔡司共聚焦显微镜,全自动数字切片扫描,病理切片扫描,激光切割显微系统,立体显微镜,国产激光共聚焦显微镜,精准医学显微切割,激光显微切割系统,按需搭建显微系统,荧光光谱仪,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机


公司成立伊始,即本着“以人为本,诚信发展,合作共赢"的企业宗旨,快乐中结识新朋友,稳步中追求新发展。目前公司已经拥有一支由专业技术人员、营销人员和维修人员组成的强大队伍,竭诚为广大客户提供包括技术咨询、产品配套、安装调试、应用指导、维护保养在内的整套细致入微的服务。同时公司还依托中国地质研究院、清华大学、中国农业大学、中科院等科研院所的强大技术实力,特聘多名教授、博士作为我公司提供多方面的技术支持。

公司储备各显微镜现货,只要您有需求,我们就能随时为您提供各种产品选配服务。公司管理层、营销队伍和技术人员都具备多年的专业技术经验,相信我们的质量和服务一定是显微光学领域中无法可比的。

北京瑞科中仪科技有限公司秉承“专业的人员,过硬的技术,优秀的产品"精神,为您提供专业、及时、周到的技术服务,北京瑞科中仪科技有限公司必将成为您值得信赖的伙伴!












显微镜,激光共聚焦,电镜,x射线,激光捕获显微切割,荧光成像系统,DNA/RNA合成仪,半导体行业仪器设备,生命科学仪器,光刻机,

价格区间 100万-200万 应用领域 环保,生物产业,石油,制药/生物制药,综合

高密度等离子体

等离子沉积设备SI 500 D具有优异的等离子体特性,如高密度,低离子能量和低压等离子沉积介质膜。

平行板ICP等离子体源

SENTECH有的平行板三螺旋天线(PTSA)ICP等离子体源实现了低功率耦合。

优异的沉积性能

等离子沉积设备SI 500 D低刻蚀速率,高击穿电压,低应力、不损伤衬底以及在低于100°C的沉积温度下的低界面态密度,使得所沉积的薄膜具有优异的性能。

动态温度控制

动态温度控制结合氦气背冷的衬底电极,以及衬底背面温度传感在从室温到+350°C的广泛温度范围内提供了优异稳定工艺条件。


SI 500 D等离子沉积设备代表了等离子体增强化学气相沉积的前沿技术,如介质膜、a-Si、SiC和其他材料。它基于PTSA等离子体源、独立的反应气体进气口、动态温度控制衬底电极、全自动控制的真空系统、采用远程现场总线技术的SENTECH控制软件,以及操作SI 500 D的用户友好的通用用户界面。

SI 500 D等离子沉积设备可以加工各种各样的衬底,从直径高达200 mm的晶片到装载在载片器上的零件。单晶片预真空室保证了稳定的工艺条件,并实现在不同工艺之间的便捷切换。

SI 500 D等离子增强沉积设备用于在从室温到350℃的温度范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通过液态或气态前驱体,SI 500 D可以为TEOS, SiC,和其它材料的沉积提供解决方案。SI 500 D特别适用于在低温下在有机材料上沉积?;げ愫驮诩榷ǖ奈露认挛匏鹕说爻粱刍?。

SENTECH提供不同级别的自动化程度,从真空片盒载片到一个工艺腔室或六个工艺??槎丝冢捎糜诓煌氖纯毯统粱ひ漳?樽槌啥嗲幌低常勘晔歉吡榛钚曰蚋卟?。SI 500 D也可用作多腔系统中的一个工艺模块。

等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D等离子沉积设备SI 500 D
  • SI 500 D


  • ICPECVD等离子沉积设备

  • 带预真空室

  • 适用于

    200mm的晶片

  • 衬底温度从室温到350?°C

  • 激光终点检测

  • 备选电极偏置





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