FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积
- 公司名称 北京瑞科中仪科技有限公司
- 品牌 其他品牌
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- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2025/5/27 9:00:21
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价格区间 | 面议 | 应用领域 | 环保,生物产业,石油,制药/生物制药,综合 |
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FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积
隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加,其製造設備也變得更大,需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發串集的PECVD 設備,提供非晶矽(a-Si),氧化矽(SiOx),氮氧化矽(SiON),氮化矽(SiNx)和多層膜沉積。
FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积
FPD-PECVD(Field Plasma Discharge Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种电浆辅助化学气相沉积技术,它利用电场产生的等离子体来促进化学气相沉积过程。该技术在薄膜材料的制备中具有重要作用,特别是在大面积平板显示(Flat Panel Display,FPD)制造领域。
FPD-PECVD技术通过在反应室内施加电场,激发气体分子产生等离子体。等离子体中的高能粒子与化学前驱体分子发生反应,形成沉积在基板上的薄膜。与传统的PECVD技术相比,FPD-PECVD能够更有效地控制等离子体的分布和能量,从而提高薄膜的质量和均匀性。
该技术广泛应用于液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)面板的生产中,用于沉积绝缘层、导电层、?;げ愕裙丶∧?。FPD-PECVD技术的优化和应用对于提升显示面板的性能和生产效率具有重要意义。
應用領域 | |
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配置和優點 | 選件 |
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