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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>原子层沉积设备> AT200M 经济型 ALD 系统

AT200M 经济型 ALD 系统

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


 

FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料学博士共同创办的德国公司。基于 Science is international”的想法,“全球协同实验室”成为三位博士追逐的梦想。

公司愿景是从科学家到科学家,科学开创美好未来。

FIRSTNANO深耕于半导体技术、材料科学、生命科学等科研领域,始终秉承“前沿、专业、科学”的宗旨,将前沿技术引进到协同实验室。我们的产品覆盖了微纳加工制程;材料科学的检测、分析;生命科学成像,脑科学与行为认知等相关领域。作为全球科技前沿的仪器供应商,FIRSTNANO具有全球技术视野、优质供应体系、以及严格的质量管控系统,能为客户提供前沿的技术解决方案。

公司服务的客户领域广泛,其中包括消费电子、航空、航天、医药技术、半导体行业、光电子行业、高校和研究机构。

在成长的过程中,我们脚踏实地、奋勇向前。自2015年香港(中华区)公司成立以来,我们一相继在香港、深圳、上海和武汉设立了分支机构。

我们真诚邀请业内英才加入FIRSTNANO TEAM,一起为梦想扬帆起航!

 

 

 

 

 

半导体仪器和电子产品耗材耗材

价格区间 50万-100万 应用领域 电子/电池,航空航天,汽车及零部件,电气

AT200M 经济型 ALD 系统

AT200M 经济型 ALD 系统特点


  • 占地面积?。▇ 15 英寸 3 或 38.1 厘米 3:宽:14 英寸(35.5 厘米)x 深:15 英寸(38.1 厘米)x 高:14.5 英寸(36.5 厘米))

  • 适合手套箱

  • 可容纳来自 2“ x 2” x 3“ 或四个 2” 圆形/方形晶圆的样品(可定制卡盘/8 x 2“ 盒)

  • 一种前驱体和一种反反应物(也提供我们的 4 端口选项:3 个前驱体和 1 个反反应物或 2 个前驱体和 2 个反反应物)

  • 新 – AT 200M Plus,配备 13.56MHz、80W 空心阴极等离子体源(1 个标准 MFC 和最多 2 个可用)。

  • 带有金属密封线的半导体级组件

  • 通风前体外壳

  • 高温兼容、快速脉冲的 ALD 阀,带有用于集成惰性气体吹扫的超快速 MFC

  • 前体(最高 180°C),歧管,腔室加热以确保无冷凝。

  • 强大的 PLC 驱动用户界面(可通过 Windows 进行远程以太网控制)

  • 不锈钢腔体可加热至 300°C(可选卡盘可达 450 °C 或更高)


特征


  • 占地面积?。▇ 15 in3 或 38.1 cm3),可轻松安装在手套箱中或 SEM/TEM 蒸发器旁边。

  • 一个前体和一个反反应物(可扩展到 4 个)

  • 可容纳来自 2“ x 2” x 3“ 或四个 2” 圆形/方形晶圆的样品(可定制卡盘/8 x 2“ 盒)

  • 通风前体外壳

  • 高温兼容、快速脉冲的 ALD 阀,带有用于集成惰性气体吹扫的超快速 MFC – 标准配置

  • 金属密封线

  • 前体(最高 180°C),歧管,腔室加热以确保无冷凝。

  • 不锈钢腔室可加热至 300°C(可选择 450 °C 或更高)

  • 带集成 PLC 控制器的 5 英寸显示器(无需 PC)


规格


  • 室温从室温到 300°C ± 1 °C

  • 前驱体温度从室温到 180°C ± 2°C(带加热夹套)

  • 市场上占地面积最?。?.6 平方英尺),台式安装,洁净室兼容(与我们大型系统的所有安全联锁装置),也适合手套箱。

  • 系统维护简单,公用事业和前体使用量低。

  • 腔室容积小

  • 非??斓难纺芰?。

  • 完整的硬件和软件联锁,即使在多用户环境中也能安全运行


选项


  • · 无需集成手套箱 [适合手套箱(或连接到手套箱的侧面)

  • · 定制卡盘/压板(方形、圆形、双基板、篮子、小件、较厚的基板、8 个晶圆盒)。

  • · 新 – AT 200M Plus,配备 13.56MHz、80W 空心阴极等离子体源(1 个标准 MFC 和最多 2 个可用)。

  • · 新产品:温度补偿 QCM

  • · 新:450 °C(或更高)卡盘

  • · ATOzone – 臭氧发生器(某些薄膜需要:Pt、Ir、SiO2、MoO2、60°C 以下的高质量 Al2O3、高质量 HfO2

  • · 可选 – 臭氧安全监测器,可实时检测环境臭氧气体

  • · 4 端口选项(例如:2 个加热前驱体、1 个未加热前驱体、1 个反反应物)

  • · 新 – 6 端口选项(例如:2 个加热前驱体、2 个未加热前驱体、2 个 MFC 控制的反反应物)

  • · 新 – MLD 选项

  • · 粉末涂料滚筒

  • 外部控制 – PC/软件链接(允许远程编程和运行)

  • 包括可通风前体柜


AT200M 经济型 ALD 系统

安装


有关详细说明,请参阅我们的说明:“AT200M 安装和启动 

  • · N2 吹扫气体应为 >99.9995%,带截止阀(调节至 10 – 30 psi,金属密封),

  • · 通过 1/4 英寸金属密封管将氮气 (UHP) 吹扫气体连接到背面的 1/4 英寸压缩接头上

  • · 通过 1/4“ 聚乙烯管或金属线将 90-110 psi CDA(清洁干燥空气)连接到另一个 1/4” 压缩接头

  • · 使用适当的 1 英寸真空(金属 (SS))软管 (KF25)、O 形圈和夹子连接泵

  • · 真空泵的另一侧(排气侧)(* 全氟真空油,如 Fomblin,必需)应进入标准实验室排气或顶部,抽> 5cfm(1 英寸管道)。

  • · 大于 1 米需要使用 1.5 英寸 (NW40)。

  • · 前体通过内螺纹 VCR 弯头连接(始终使用新垫圈)。

  • · 先是 1/4 英寸垫圈(戴手套)

 · 有关前驱体的连接,请参阅 AT200M 安装和启动 


AT200M 经济型 ALD 系统


软件


 有关详细说明,请参阅我们的演示和视频说明:“AT200M 安装和启动 ”

  • 带 5 英寸触摸屏的人机界面 (HMI) PLC 系统


  • 面板

  • · 适用于标准 ALD 循环沉积的先进控制

  • · 用于高质量、经过测试的工艺的配方数据库

  • · 自定义配方输入屏幕

  • · 实时显示工艺状态

  • · 可单独编程的加热源温度

  • · 用于三元化合物和纳米层压板的内置脉冲序列

  • · 快速运行,简单的问题让用户开始

  • · 输入子周期和总周期


AT200M 经济型 ALD 系统




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