应用领域 | 化工,能源,电子/电池,道路/轨道/船舶,航空航天 |
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RIE系列离子刻蚀机(褪膜设备)
一、主要特点:
1、离子刻蚀机(褪膜设备)能够以超低清洗温度,满足不同场合温度要求,不对清洗产品造成温度影响;
2、旋转装置为行星旋转机构、具镀膜工艺不同,设计为:变频调速,公转式、公自转结合式。采用气动门铰,自动锁门,减少操作程序,增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性;
3、高真空度真空腔体设计及制造工艺,配置进口真空泵(分子泵),用户可据自己的需求,随时升级为多功能镀膜设备;
4、设备采用高压激励电路技术,产生高密度等离子体,确保出众的清洗效果;
5、放电技术:特殊处理及特殊结构的放电装置,确保形成稳定均匀的等离子体;
6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面,实现逻辑全自动控制;
7、报警及?;ぃ喝姘踩阑ぐǎ何露劝踩阑すδ堋⒐胤阑すδ?、短路断路报警防护功能,各种误操作?;すδ?。异常情况进行报警,并执行相应?;ご胧?。
二、技术优势:
1、物质的微结构表面会粘附各种各样的气体分子、微小颗粒、氧化物杂质等,统称为粘附物,这些粘附物属于微观粒子,宏观的清洗方式不能清除它们;
2、这些微观粘附物会对纳米级膜层产生诸多不利影响,影响膜层的结合力、清洁度、光泽、致密度等;
3、离子束刻蚀清洗源可以在真空条件下产生高能氩等离子体,轰击被镀工件表面;它不仅可以消除表面粘附物,还能“刻蚀”物质表面氧化物,从而得到“新鲜”物质表面,可以极大地提高薄膜的结合力,并提高膜层纯度;
4、离子束清洗工艺通常运行在膜层沉积之前。 清洗各种形状复杂的产品,包括内孔内壁、均匀清洗;
5、设计更紧凑合理、美观;离子束更稳定;工作功率范围更宽;清洗刻蚀效率更高;刻蚀均匀性更好;性能可靠,操作维修简单方便;产品系列更完整;
6、应用领域,可以为如下行业的镀膜提供表面清洗预处理:3C消费电子、电子元器件、光学、 交通工具、刀具模具、家电、新能源、医疗、科研等行业。
三、设备参数:
型号 | RIE2501-2 |
腔室尺寸 | 470*300*245(mm) |
离子源类型 | 阳极层离子源 |
极限真空 | <5.0*10-4Pa |
备注 | 设备可根据客户需求进行定制 |
四、应用领域:
1、可褪碳基薄膜,可作为DLC/TAC薄膜的褪膜机使用;
2、可应用在:3C消费电子、电子元器件、光学、交通工具、刀具模具、家电、新能源、医疗、科研等行业。
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-材料实验室-检测结果