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GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司—實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)解決方案集成者:
鴻瑞正達(dá)主要服務(wù)于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設(shè)備及整套解決方案,包括:高壓科學(xué)材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設(shè)備。

我們的服務(wù)理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,材料科學(xué),質(zhì)譜儀,電化學(xué),電池,催化

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產(chǎn)  簡介 GSL-1700X-SPC-2  型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對程序進(jìn)行設(shè)   并精確控制溫度在  200oC-1500oC (或者 1200oC-~1700oC)的范圍內(nèi)進(jìn)行變化, 可蒸鍍直徑長達(dá) 2"的薄膜樣品, 在對樣品進(jìn)行 蒸發(fā)鍍膜的過程中,樣品臺可進(jìn)行旋轉(zhuǎn),以獲得更均勻的薄膜。 GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜 儀應(yīng)用范圍廣,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜,因此被廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光 LED 的制備。 GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀體積小巧,可有效節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間;操作簡單, 對不同材料的 適應(yīng)性強(qiáng),因此被廣泛應(yīng)用于各大高校和科研院所的實(shí)驗(yàn)室當(dāng)中。




產(chǎn)品名稱

GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品型號

GSL-1700X-SPC-2









主要特點(diǎn)

1 、已通過 CE 認(rèn)證。

2、采用石英腔體,易于清潔和樣品的放入。

3、樣品臺可旋轉(zhuǎn),能夠使所制薄膜達(dá)到更好的均勻性。

4、采用鎢絲作為發(fā)熱源,溫度可達(dá)到 1700℃,并配有專用的氧化鋁舟裝載樣品(僅 1600oC  下使用, 若蒸發(fā)溫度大于 1600oC,樣品應(yīng)直接放在鎢絲籃中)。

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5、熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測量和控制。

6、可將設(shè)備轉(zhuǎn)換到手動調(diào)節(jié)狀態(tài), 內(nèi)部不安裝熱電偶, 直接采用手動調(diào)節(jié)輸出電流大小, 發(fā)





熱源溫度可達(dá) 2000oC,可達(dá)到對樣品鍍碳等實(shí)驗(yàn)要求。


7 、可向真空腔體中通入惰性氣體,對腔體進(jìn)行清洗,也可通入反應(yīng)氣體,進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜。


8、進(jìn)氣口配有針閥,用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量。











技術(shù)參數(shù)

1、電壓: AC 208V-220V 50Hz/60Hz  單相


2 、Max 功率: 500W ,Max 大電流為 30A


3、真空腔體:石英腔體,直徑 ?6"


4、樣品臺: 直徑 ?50mm;可旋轉(zhuǎn), 轉(zhuǎn)速5rpm;與蒸發(fā)源間距可調(diào), 調(diào)節(jié)范圍 60mm-100mm


5 、Max 溫度: 1700oC


6、熱電偶: S 型熱偶, 工作溫度 200oC-1500oC(可選用 B 型熱偶, 工作溫度 1200oC-1700oC


7、控溫精度:± 1oC,數(shù)顯溫度控制器, 可設(shè)置 30 段升降溫程序


8、鎢絲籃: 2 


9、真空接口: KF40


10、真空計(jì): 數(shù)顯防腐真空計(jì) PCG554 ,測量范圍 3.8×10-5-1125torr


11、進(jìn)氣接口: 1/4NPS





產(chǎn)品規(guī)格

尺寸: 440mm×330mm×630mm


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可選配件

1、機(jī)械泵(帶油污過濾器)(真空度<10-2torr,可以蒸發(fā)貴金屬,  Au 、Ag

2、分子泵(可獲得高真空,真空度<10-5torr,蒸發(fā)易氧化材料,  Al 、Mg 、Li 等)


3、低真空系統(tǒng)


4、高真空系統(tǒng)





5、等離子清洗機(jī)(鍍膜前對基片進(jìn)行清洗,可獲得更好的薄膜強(qiáng)度)




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