VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
- 公司名称 北京鸿瑞正达科技有限公司
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- 型号
- 产地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2024/3/7 22:50:04
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产品简介： VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸， 样品台与溅射头之间的高度在 30-80mm 之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板，可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s 之间可调，若想获得薄的薄膜，溅射时间可以设置短一点
；若想获得厚的薄膜，溅射时间可以长一点。VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜，制膜面积可达到4英寸。设备外 形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
| 产品名称 | VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪 |
| 产品型号 | VTC-16-D |
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主要特点 | 1 、特别为 SEM 样品镀导电性薄膜设计。 2、体积小巧，操作简单，容易上手。 3、拥有小型磁控靶头，可以镀金银铂等金属。 |
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| 1、输入电源： 220V AC 50/60Hz 2、功率： 200W 3、输出电压： 500 VDC |
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技术参数 | 5、溅射时间： 0-120S 可调 6、溅射腔体 1）采用石英腔体，尺寸： 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2）密封： 采用不锈钢平法兰的 O 形密封圈 7、溅射头&样品台 l）溅射头可安装靶材直径为 2 英寸， 厚度 0.1 - 2.5mm 2）溅射时间 1-120S 可调 3）仪器中安装有直径为 50mm 的不锈钢样品台， 其与溅射头之间距离 30-80mm 可调。 4）可选购加热型样品台，其加热温度可达 500℃ 5）安装有一可手动操作的溅射挡板，可进行预溅射 6）制膜的直径可达:4 英寸（仅供参考，详情请点击）
8、真空系统 l）安装有 KF25 真空接口 2）数字真空压力表（Pa） 3）此系统可通入气体运行 4）< 1.0E-2 Torr （采用机械泵） 5）< 1.0E-5 Torr （采用涡旋分子泵） 9、进气 l）设备上配 1/4 英寸进气口，方便连接气瓶 2）设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流 10、靶材 l）靶材尺寸要求： Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2）设备标配为铜靶 11、产品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm |
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