通過將高溫氣體接觸部分與不耐熱的基板部分分離，可以實(shí)現(xiàn)高溫環(huán)境下的氣體控制。接氣體加熱模塊采用不銹鋼材料SUS-316L，密封材料采用Au，可對應(yīng)腐蝕性氣體。在標(biāo)準(zhǔn)配置基礎(chǔ)上，還可選配防止液化氣體再次液化的低壓差規(guī)格，以及接觸氣體部分專用加熱模塊。
日本LINTEC林泰克供應(yīng) 氣體流量控制器 MC-3102L-TC
日本LINTEC林泰克供應(yīng) 氣體流量控制器 MC-3102L-TC

使用范例

液化氣體、升華氣體流量控制

CVD（化學(xué)氣相沉積法）和 ALD （原子層沉積法）中所使用的氣源不僅限于常溫常壓下的氣體，也可能是常溫常壓下的液體或固體原料。液體和固體在常溫條件下產(chǎn)生的氣體較少，很難利用壓差原理來控制流量。因此，MFC的工作壓力是通過加熱原料罐并增加蒸汽壓力以產(chǎn)生壓差來確保的。MC-3000L-TC能夠進(jìn)行高溫控制和低壓差工作，是液化和揮發(fā)性氣體流量控制的理想選擇。

規(guī)格表

※此表僅表示一般規(guī)格的MFC。　根據(jù)選配規(guī)格變化。

■簡 介
●MC-3000L-TC 系列是可適用最高溫度達(dá)120℃的質(zhì)量流量控制器
■特 點(diǎn)
●可用于120℃高溫環(huán)境下操作
●采用標(biāo)準(zhǔn)RS-485數(shù)字通訊接口
●搭配LINTEC的環(huán)境溫度補(bǔ)償式質(zhì)流傳感器
●內(nèi)置微處理器提高處理效能
●控制閥由具有極小閉死容積的隔膜閥構(gòu)造所組成
●采用高速度，高性能的壓電控制閥
●使用耐久性高、密閉性高的金屬密封件,維護(hù)性提高
●采用金屬外殼以及各種濾波器，在高磁噪音及直流磁場的環(huán)境下亦能維持其安定性