聯(lián)系電話(huà)
深圳市京都玉崎電子有限公司
中級(jí)會(huì)員·3年
- 聯(lián)系人：
- 袁蘭香
- 電話(huà)：
- 13717032088
- 手機(jī)：
- 13717032088
- 傳真：
- 86-755-28578000
- 地址：
- 龍華新區(qū)梅龍大道906號(hào)創(chuàng)業(yè)樓
- 個(gè)性化：
- www.cucudi.com
- 網(wǎng)址：
- www.tamasaki.cn
掃一掃訪問(wèn)手機(jī)商鋪
半導(dǎo)體曝光設(shè)備由光源、聚光透鏡、光掩模、投影透鏡和載物臺(tái)組成。從光源發(fā)出的紫外光通過(guò)聚光透鏡調(diào)整，使其指向同一方向。之后，紫外光穿過(guò)作為構(gòu)成電路圖案的一層的原型的光掩模，并通過(guò)投影透鏡減少光線(xiàn)，將半導(dǎo)體元件的電路圖案（的一層）轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體元件上。馬蘇。在諸如步進(jìn)機(jī)之類(lèi)的曝光設(shè)備中，在完成一次轉(zhuǎn)移之后，通過(guò)平臺(tái)移動(dòng)硅晶片，并將相同的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅晶片上的另一位置。通過(guò)更換光掩模，可以轉(zhuǎn)印半導(dǎo)體器件的另一層電路圖案。
所使用的光源包括波長(zhǎng)為248 nm的KrF準(zhǔn)分子激光器、波長(zhǎng)為193 nm的ArF準(zhǔn)分子激光器以及波長(zhǎng)為13 nm的EUV光源。
最新半導(dǎo)體制造工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則（最小加工尺寸）越來(lái)越細(xì)化至3至5納米左右，因此聚光透鏡、光掩模、投影透鏡和平臺(tái)都需要納米級(jí)的高精度。此外，隨著層壓的進(jìn)行，進(jìn)行多次曝光以改變電路圖案并形成單個(gè)半導(dǎo)體。
