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日立離子研磨裝置I

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  • 日立離子研磨裝置I

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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 IM4000 I
  • 品牌 ATEC/日本
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 武漢市

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更新時間:2025-05-15 18:19:19瀏覽次數(shù):1642

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別 進口 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)林牧漁
日立離子研磨裝置I
混合模式:兩種研磨配置
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性
高效:提高加工效率
與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間
(參考加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%)

詳細介紹

日立離子研磨裝置IM4000 II



日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )混合模式帶有兩種研磨配置:
    斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結構高分辨成像。
    平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )高通量能提高加工效率:
        與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間。
    (參考加工速率:硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )可拆卸樣品臺裝置:

    為便于樣品設置和定義研磨邊緣,可將樣品臺裝置拆卸。


特點


  • 混合模式:兩種研磨配置
    斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
    平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性

  • 高效:提高加工效率
    與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間
    (參考加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%)

  • 可拆卸式樣品臺:
    為便于樣品設置和邊緣研磨,樣品臺設計為可拆卸型

日立科學儀器(北京)有限公司為您提供日立離子研磨裝置IM4000 II的參數(shù)、價格、型號、原理等信息,日立離子研磨裝置IM4000 II產(chǎn)地為日本、品牌為日立,型號為IM4000 II,價格為面議,更多相關信息可,公司客服電話7*24小時為您服務


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