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詳細(xì)摘要： 德國CS INSTRUMENTS是一款集成多種功能的創(chuàng)新測(cè)量設(shè)備。該設(shè)備門為現(xiàn)場應(yīng)用而設(shè)計(jì)，配有集成式可充電電池以及經(jīng)過驗(yàn)證和測(cè)試的傳輸單元，并配有防震且小巧的...

詳細(xì)摘要： SGA91 - CO煙氣分析儀煙氣分析儀方便直觀的零校準(zhǔn)方式 背景光便于現(xiàn)場讀數(shù)操作簡單,即時(shí)顯示所測(cè)氣體濃度方便直觀的零校準(zhǔn)方式背光便于現(xiàn)場讀數(shù)型壽命為3年的...

詳細(xì)摘要： 高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學(xué)改性，經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何...

詳細(xì)摘要： 日立紫外/臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II無油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）3min內(nèi)達(dá)到所需真空度清洗系統(tǒng):2種清洗模式真空清洗和真空儲(chǔ)存清洗時(shí)間范圍為1m...

詳細(xì)摘要： 日立紫外清洗設(shè)備真空系統(tǒng):無油真空系統(tǒng)（隔膜泵9L/min）3min內(nèi)達(dá)到所需真空度真空范圍為100-500torr(100步)清洗倉:樣品尺寸: 100mm ...

詳細(xì)摘要： 與機(jī)械拋光不同，離子研磨系統(tǒng)處理樣品而不會(huì)變形或施加機(jī)械應(yīng)力。因此，用于預(yù)處理樣品的離子銑削系統(tǒng)的應(yīng)用范圍不斷擴(kuò)大，不僅包括掃描電子顯微鏡（SEM），還包括原子...

詳細(xì)摘要： 日立離子研磨裝置I混合模式：兩種研磨配置斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品...

詳細(xì)摘要： 日立高新掃描電子顯微鏡主機(jī)與供電單元可分離，安裝非常靈活。 近年來，掃描電鏡觀察表面精細(xì)結(jié)構(gòu)及元素分析的需求日趨增加，而越來越多的用戶希望能在生產(chǎn)線、品保檢驗(yàn)線...

詳細(xì)摘要： 日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡　　?利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期，高分辨觀察和分析兼顧　　?大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)　　?減輕...

詳細(xì)摘要： 緊湊型毛細(xì)管電泳測(cè)序儀日立臺(tái)式掃描電鏡標(biāo)配低真空模式，簡化樣品前處理 采用低真空，不導(dǎo)電樣品也無需噴金，可以直接觀察，大大提高了工作效率。全自動(dòng)聚焦和亮度對(duì)比度...

詳細(xì)摘要： 日立白光干涉顯微鏡搭配了符合ISO 25178標(biāo)準(zhǔn)的分析工具 “ISO 25178參數(shù)對(duì)比工具"。在ISO 25178標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定了評(píng)估表面性狀的32個(gè)項(xiàng)目的參數(shù)...

詳細(xì)摘要： 日立臺(tái)式掃描電鏡標(biāo)配低真空模式，簡化樣品前處理 采用低真空，不導(dǎo)電樣品也無需噴金，可以直接觀察，大大提高了工作效率。全自動(dòng)聚焦和亮度對(duì)比度調(diào)整，只需按幾個(gè)按鈕就...

詳細(xì)摘要： 日立掃描探針顯微鏡控制器此系列開發(fā)出一種的處理方法，可預(yù)測(cè)并調(diào)整懸臂的振動(dòng)振幅、動(dòng)作頻率等主要參數(shù)。其通過對(duì)樣品表面的形狀、掃描區(qū)域、使用的懸臂及掃描儀等的綜合...

詳細(xì)摘要： 多功能掃描探針顯微鏡系統(tǒng)AFM100 Plus/AFM100系統(tǒng)是以在研發(fā)、生產(chǎn)、教育等各種場合普及AFM應(yīng)用為目的，并追求操作性、可靠性及高效率觀察的通用型高...

詳細(xì)摘要： 這次推出的臺(tái)式紫外可見近紅外分光光度計(jì)UH5700，融合了日立精密的光柵技術(shù)，使用了新研發(fā)的蝕刻衍射光柵，既可測(cè)定液體樣品的吸收光譜，也可測(cè)定固體樣品的反射和透...

詳細(xì)摘要： 日立熒光分布成像系統(tǒng)1. 可以測(cè)定樣品的光譜數(shù)據(jù)（反射光、熒光特性）在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝樣品圖像，（區(qū)域：Φ20mm、空間分辨率：0.1...

詳細(xì)摘要： 日立火焰原子吸收分光光度計(jì)190nm~900nm全譜采用塞曼背景校正技術(shù)，可扣除所有背景干擾（包含結(jié)構(gòu)背景）全時(shí)雙光束技術(shù)，樣品信號(hào)和參比信號(hào)同時(shí)檢測(cè)，可獲得穩(wěn)...

詳細(xì)摘要： 日立熒光分光光度計(jì)F-7100新設(shè)“高階光過濾"功能，可在多變量分析三維熒光光譜數(shù)據(jù)時(shí)，將不含二階光區(qū)域的數(shù)據(jù)至 Excel 表。與不輸出比激發(fā)光波長要短的波長...

詳細(xì)摘要： 日立雙光束紫外可見分光光度計(jì)特點(diǎn):(1)性能---可獲得高精度的數(shù)據(jù)：光源使用長壽命閃爍氙燈光源品質(zhì)期長達(dá)7年*1，降低運(yùn)行成本雙光束光學(xué)系統(tǒng)與單光束光學(xué)系統(tǒng)相...

詳細(xì)摘要： 日立熒光分光光度計(jì)三維時(shí)間掃描模式追蹤監(jiān)控化學(xué)反應(yīng)過程顯示出來。增大檢測(cè)時(shí)間范圍，能夠測(cè)定持續(xù)較長時(shí)間發(fā)光的磷光?？梢允褂脻舛确秶哌_(dá)6個(gè)數(shù)量級(jí)的數(shù)據(jù)生成校正曲...