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桌面型有机源蒸发镀膜仪
  • 桌面型有机源蒸发镀膜仪

货物所在地:河南郑州市

更新时间:2025-07-24 21:00:08

浏览次数:5

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桌面型有机源蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中,材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能,从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面,并在那里凝聚形核生长成固相薄膜。

桌面型有机源蒸发镀膜仪产品特点

高纯度薄膜:由于在高真空条件下进行,减少了气体分子与蒸发材料的碰撞,从而能够制备出高纯度的薄膜。

**控制:蒸发镀膜技术允许对薄膜的厚度、成分和结构进行**控制,这在许多高精度应用中至关重要。
适用多种材料:蒸发镀膜技术可以用于多种材料,包括金属、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有机材料等。
高沉积速率:特别是使用电子束蒸发时,由于高能量的电子束能够快速加热材料,可以实现高沉积速率。
均匀性:通过适当的工艺参数调整,可以在大面积基底上获得均匀的薄膜。
低损伤:由于加热主要集中在蒸发材料上,对基底的热影响较小,适用于热敏材料的薄膜沉积。


桌面型有机源蒸发镀膜仪技术参数

参数名称

参数说明

产品名称

桌面型有机源蒸发镀膜仪

产品型号

CY-EVZ254-I-H-SS

真空腔体

腔体材质

304不锈钢焊接而成,表面做抛光处理

取放模式

前开门方式取放样品和蒸镀材料

观察窗

直径80mm真空窗口,配有磁力挡板,防止污染

样品台

样品尺寸

直径≦100mm的平面样品均可

旋转速度

分不旋转和旋转型(0-20RPM)

加热温度

≦1800℃

蒸发系统

蒸发源

钨丝篮或坞舟  1个

样品台蒸发源距离

60-100mm 可调

镀膜方式

热蒸发镀膜

真空系统

抽气接口:KF25/40, 排气接口: KF16

复合真空计,电阻规+电离规

前级泵

旋片泵  抽速: 1.1L/S

分子泵

抽速: 62L/S (大阪分子泵)

膜厚测量

通常配CYKY膜厚测量仪  (可?。?/span>

也可选配进口品牌,价格额外计算

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

2KW

外形尺寸

750mm X 450mm X750mm

包装重量

70 KG


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