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三温区PECVD气相沉积石墨烯制备 参考价：60000
三温区PECVD气相沉积石墨烯制备由等离子发生器，三温区管式炉、射频电源、真空系统组成。等离子增强CVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的...
PECVD气相沉积 参考价：60000
PECVD气相沉积（等离子体增强化学气相沉积）是一种化学气相沉积技术，在材料科学、半导体制造等众多领域有广泛的应用。
CVD化学气相沉积系统 参考价：60000
CVD化学气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域，用于制备各种功能性薄膜，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等...
等离子增强化学气相沉积设备 参考价：60000
等离子增强化学气相沉积设备采用等离子体增强型化学气相沉积技术，基本温度低，沉积速率快，在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等...
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