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简单介绍：
该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
详情介绍：
单靶直流磁控溅射镀膜仪经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。
单靶为一支强磁靶，所配电源为 1台1500W 直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备。
镀膜仪配有一路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配涡轮分子泵组，极限真空可达 1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
规格参数：
单靶直流磁控溅射镀膜仪 | ||
样品台 | 外形尺寸 | Φ360mm |
可调转速 | 1-20rpm可调 | |
磁控靶枪 | 靶材平面 | 圆形平面靶 |
溅射真空 | 0.1Pa～3Pa | |
靶材直径 | 100～101.6mm | |
靶材厚度 | 3mm | |
绝缘电压 | >2000V | |
电缆规格 | SL-16 | |
靶头温度 | ≦65℃ | |
真空腔体 | 内壁处理 | 电解抛光 |
腔体尺寸 | Φ500mm × 500mm | |
腔体材料 | 304不锈钢 | |
观察窗口 | 石英窗口，直径φ100mm | |
开启方式 | 侧面开启 | |
气体控制 | 流量控制 | 质量流量计，量程0～100SCCM |
气体种类 | 可选氩气、氮气、氧气等多种气体 | |
调节阀类型 | 电磁调节阀 | |
调节阀静止状态 | 常闭 | |
测量线性度 | ±1.5%F.S | |
测量重复精度 | ±0.2%F.S | |
测量响应时间 | ≤8秒（T95） | |
工作压差范围 | 0.3MPa | |
阀体耐压 | 3MPa | |
工作环境温度 | （5～45）℃ | |
阀体材料 | 不锈钢316L | |
阀体漏率 | 1×10-8Pa.m3/s | |
管道接头 | 1/4″卡套接头 | |
输入输出信号 | 0～5V | |
供电电源 | ±15V（±5%）（＋15V 50mA, －15V 200mA） | |
外形尺寸mm | 130（宽）×102（高）×28（厚） | |
通讯接口 | RS485 MODBUS协议 | |
直流电源 | 电源功率 | 1500W |
膜厚测量 | 电源要求 | DC:5V（±10%） *大电流 400mA |
分辨率 | ±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /测量(铝) | |
测量精度 | ±0.5%厚度+1计数 | |
测量周期 | 100mS～1S/次（可设置） | |
测量范围 | 500,000 ? (铝) | |
晶体频率 | 6MHz | |
通讯接口 | RS-232/485串行接口 | |
显示位数 | 8位LED显示 | |
分子泵 | 分子泵抽速 | 1200L/S |
额定转速 | 24000rpm | |
振动值 | ≦0.1um | |
启动时间 | 5min | |
?；奔?/span> | 7min | |
冷却方式 | 水冷+风冷 | |
冷却水温度 | ≦37℃ | |
冷却水流速 | 1L/min | |
安装方向 | 垂直±5° | |
抽气接口 | 150CF | |
排气接口 | KF40 | |
前级泵 | 抽气速率 | VRD-16 |
极限真空 | 1Pa | |
供电电源 | AC:220V/50Hz | |
电机功率 | 400W | |
噪音 | ≦56db | |
抽气接口 | KF40 | |
排气接口 | KF25 | |
阀门 | 闸板阀 | 真空腔体与分子泵间装有闸板阀 |
切断阀 | 分子泵与前级之间装有切断阀 | |
旁抽阀 | 真空腔体与前级之间装有旁抽阀 | |
放气阀 | 真空腔体上装有电磁放气阀 | |
整机极限真空 | ≦5×10-4Pa | |
测试靶材 | 直径4英寸厚度3mm的镍靶材1块 | |
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