换位自转等离子镀膜仪 参考价:40000
换位自转等离子镀膜仪采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验,本设备配备换位自转式样品台,用户可以在触控屏上实现一键换位,样品台可在两个靶位自由切...2200℃定向凝固炉 参考价:160000
2200℃定向凝固炉是一种在真空或?;て仗跫?,利用中频感应加热原理烧结高熔点金属、硬质合金、碳化硅陶瓷等材料的新型真空炉(非自耗式)金属熔炼吸铸炉 参考价:160000
(非自耗式)金属熔炼吸铸炉是一款小型的电弧熔炼炉,既可以熔炼金属块,也可以吸铸金属锭,实现一炉多用,满足客户的多种需要。该炉配备一个可视真空压力表,可直接观察腔...可程序控温金属甩带炉 参考价:160000
可程序控温金属甩带炉是一款实验型高真空金属甩带炉,用于制备非晶态金属材料。样品通过感应加热,将样品快速旋转到铜辊上,来达到快速淬火。3000℃高温真空感应烧结炉 参考价:160000
3000℃高温真空感应烧结炉采用感应加热,设备烧结温度可达到 3000℃。采用不锈钢水冷腔体,配有石英观察窗观测样品烧结情况,适用于超高温样品烧结的热处理。设备...1800度500克真空感应熔炼炉 参考价:160000
1800度500克真空感应熔炼炉广泛应用于大专院校及科研单位等在真空或?;て仗跫戮宓纳?1700度25公斤真空感应熔炼炉 参考价:180000
1700度25公斤真空感应熔炼炉广泛应用于大专院校及科研单位等在真空或保护气氛条件下对金属材料(如 不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等)的熔炼...2200度300g真空悬浮熔炼炉 参考价:180000
2200度300g真空悬浮熔炼炉是将分瓣水冷铜坩埚置于强大的交变磁场中,利用感应涡流加热水冷铜坩埚中的金属使其融化,依靠电磁力使熔融金属与水冷铜坩埚不产生密切接...镍钴合金中频感应熔炼炉 参考价:180000
镍钴合金中频感应熔炼炉功能全 面、熔炼快速、使用方便、节能环保,非常适合实验室进行金属样品研究。广泛应用于大专院校及科研单位等在真空或保护气氛条件下对金属材料(...1800度1Kg真空感应熔炼炉 参考价:80000
1800度1Kg真空感应熔炼炉是真空冶金领域中应用广泛的设备之一。它可以在真空环境下熔炼这些金属,去除其中的杂质,生产出高纯金属2000℃15kw真空感应熔炼炉 参考价:60000
2000℃15kw真空感应熔炼炉熔炼快速、使用方便、节能环保,非常适合实验室进行小剂量的金属样品研究。多源高真空蒸发镀膜仪 参考价:250000
多源高真空蒸发镀膜仪设备采用前开门式真空腔体设计,腔体空间大,可拓展性强,能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台,可根据用户样品样式选取夹持或...桌面型石英腔体小型蒸发镀膜仪 参考价:90000
本产品为桌面型石英腔体小型蒸发镀膜仪,可提供100A的镀膜电流,蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属及部分非金属的蒸镀桌面型热蒸发镀膜仪带膜厚仪 参考价:90000
桌面型热蒸发镀膜仪带膜厚仪可提供100A的镀膜电流,蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属及部分非金属的蒸镀小型电动升降样品台蒸发镀膜仪 参考价:90000
小型电动升降样品台蒸发镀膜仪为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀...多源真空蒸发镀膜仪 参考价:250000
多源真空蒸发镀膜仪还适用于对氧敏感的金属薄膜(如Ti、Al、Au等)的蒸镀,也适用于各种氧化物材料的蒸镀小型高真空双源热蒸发镀膜仪 参考价:90000
小型高真空双源热蒸发镀膜仪可提供100A的镀膜电流,蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀。桌面型有机源蒸发镀膜仪 参考价:100000
桌面型有机源蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中,材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能,从而转变为气...高真空三源热蒸发镀膜仪 参考价:250000
高真空三源热蒸发镀膜仪应用领域:金属和介电膜 ,薄膜传感器的制造 ,光学元件 ,纳米与微电子 ,太阳能电池等双靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价:120000
双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验...三靶向上磁控溅射镀膜仪 参考价:250000
三靶向上磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该磁控...光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪 参考价:200000
光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪 参考价:250000
本设备为带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备三靶直流磁控溅射镀膜仪 参考价:250000
三靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该磁控...