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西安齊岳生物科技有限公司

光刻膠的光聚合反應/水解反應示意圖

時間:2021-1-22閱讀:4353
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光刻膠的光聚合反應/水解反應示意圖

光聚合反應示意圖

光分解型光刻膠,采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,其經光照后,發生光分解反應,可以制成正性光刻膠;光交聯型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,形成一種不溶性的網狀結構,而起到抗蝕作用,可以制成負性光刻膠。

 

光分解反應示意圖

在半導體集成電路光刻開始使用深紫外(DUV)光源以后,化學放大(CAR)逐漸成為行業應用的主流。在化學放大光刻膠中,樹脂是具有化學基團保護因而難以溶解的聚乙烯。化學放大光刻膠使用光致酸劑(PAG)作為光引發劑。

 

光交聯反應示意圖

當光刻膠曝光后,曝光區域的光致酸劑(PAG)將會產生一種酸。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑,將會移除樹脂的保護基團從而使得樹脂變得易于溶解。化學放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,對深紫外光源具有的光學敏感性,同時具有高對比度,對高分辨率等優點。

化學放大光反應示意圖

按照曝光波長分類;光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,其適用的光刻分辨率不同。通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,波長越短,加工分辨率越佳。

產品供應:

 

產品型號光源分辨率厚度(um)適用范圍
厚膠 Thick ResistSU-8 GM10xx系列g/h/i-Line負性0.1um0.1-200具有較大的高寬比,透明度高,垂直度。
SU-8 Microchemg/h/i-Line負性0.5um0.5-650具有較大的高寬比,透明度高,垂直度。
SPR220g/h/i-Line正性1um1—30可用于選擇性電鍍電鍍,深硅刻蝕等工藝。
NR26-25000Pg/h/i-Line負性 20-130厚度大,相對容易去膠。
電子束光刻膠型號光源類型分辨率厚度(um)適用范圍
SU-8 GM1010電子束負性100nm0.1-0.2可用于做高寬比較大的納米結構。
HSQ電子束負性6nm30nm~180nm分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕。
XR-1541-002/004/006
HSQ Fox-15/16電子束負性100nm350nm~810nm分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕。
PMMA(國產)電子束正性\\高分辨率,適用于電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠。
PMMA()電子束正性\\MicroChem,分子量,適用于電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠。
薄膠型號光源類型分辨率厚度(um)適用范圍
S18xx系列g-Line正性0.5um0.4-3.5較常用的薄光刻膠,分辨率高,穩定。
SPR955系列i-Line正性0.35um0.7-1.6高分辨率(0.35um)光刻膠,穩定。
BCI-3511i-Line正性0.35um0.5-2國產0.35um光刻膠,已經在量產單位規模使用。
NRD6015248nm負性0.2um0.7-1.3國產深紫外光刻膠,已經在量產單位規模使用。
Lift off光刻膠型號光源類型分辨率厚度(μm)適用范圍
KXN5735-LOg/h/i-Line負性4μm2.2-5.2負性光刻膠;倒角65-80°,使用普通正膠顯影液顯影。
LOL2000/3000g/h/i-Line/NA130nm-300nm非感光性樹脂,可以被顯影液溶解,作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用。
ROL-7133g/h/i-Line/4um2.8-4負性光刻膠,倒角75~80°,使用普通正膠顯影液。
光刻膠配套試劑品名主要成分包裝應用//
正膠顯影液TMAH 2.38%4LR/PC正膠顯影液//
正膠稀釋劑PGMEA4LR/PC稀釋劑//
SU8 顯影液PGMEA4L/PC顯影SU8光刻膠//
RD-HMDSHMDS500ml/PC增粘劑//
OMNICOAT見MSDS500ml/PCSU-8增粘劑//

上述產品齊岳生物均可供應,用于科研!

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