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德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司

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KLA Zeta™-388光學輪廓儀

參  考  價:50000 - 999999 /臺
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號

  • 品牌

    KLA-Tencor

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    香港特別行政區(qū)

更新時間:2025-03-09 20:00:22瀏覽次數(shù):200次

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產(chǎn)地類別 進口 產(chǎn)品種類 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀
價格區(qū)間 50萬-100萬 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,汽車及零部件,綜合
KLA Zeta™-388光學輪廓儀提供3D量測和成像功能,與集成防震臺和晶圓操作系統(tǒng)結(jié)合,可實現(xiàn)全自動測量。該系統(tǒng)采用ZDot™ 技術(shù),可同時收集高分辨率3D形貌信息和樣品表面真彩色圖像。Zeta-388支持研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境,具有多模光學器件、易于使用的軟件、低擁有成本和SECS/GEM通信。

KLA Zeta™-388光學輪廓儀是一款非接觸式三維(3D)表面地貌測量系統(tǒng)。KLA Zeta™-388光學輪廓儀基于Zeta-300的功能,增加了用于全自動測量的機械手臂操作系統(tǒng)。該系統(tǒng)由ZDot技術(shù)及多模式光學組件提供支持,可支持各種樣品測量:透明和不透明、低至高反射率及各種粗糙程度的紋理,以及從納米到毫米范圍的臺階高度。

KLA Zeta™-388光學輪廓儀


Zeta-388光學輪廓儀集成了六種不同的光學量測技術(shù),構(gòu)建出一款可靈活配置且易于使用的系統(tǒng)。ZDot測量模式同時收集高分辨率的3D掃描信息和樣品表面真彩色圖像。其他3D測量技術(shù)包括白光干涉測量法、諾馬斯基光干涉對比顯微法和剪切干涉測量法,膜厚測量包含使用ZDot模式測量和光譜反射的測量方法。Zeta-388也是一款專業(yè)顯微鏡,可用于抽樣檢查或缺陷自動檢測。Zeta-388通過提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度測量、缺陷檢測功能和機械手臂操作系統(tǒng)來支持研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境。

特征

  • 采用ZDot及多模式光學技術(shù)且便于使用的光學輪廓儀,可應(yīng)對各種各樣的應(yīng)用程序

  • 用于抽樣檢查和缺陷檢測的高質(zhì)量顯微鏡

  • ZDot:同時收集高分辨率的三維(3D)掃描及真彩色無限聚焦圖像

  • ZXI:采用縱向高分辨率的廣域測量白光干涉儀

  • ZIC:圖像對比度增強,可實現(xiàn)亞納米級粗糙度表面的定量分析

  • ZSI:縱向高分辨率圖像的剪切干涉術(shù)

  • ZFT:通過集成式寬頻反射測量法測量薄膜厚度和反射率

  • AOI:自動光學檢測,可量化樣本缺陷

  • 生產(chǎn)能力:具有多點量測和圖形識別功能的全自動測量

  • 機械手臂操作系統(tǒng):自動加載直徑為50毫米到200毫米的不透明(例如硅)和透明(例如藍寶石)樣品

KLA Zeta™-388光學輪廓儀

應(yīng)用

  • 臺階高度:從納米到毫米的3D臺階高度

  • 表面:光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波紋度測試

  • 翹曲:2D或3D翹曲

  • 應(yīng)力:2D或3D薄膜應(yīng)力

  • 薄膜厚度:透明薄膜厚度從30nm至100µm不等

  • 缺陷檢測:捕獲大于1µm的缺陷

  • 缺陷審查:KLARF文件可用于尋找缺陷,以確定劃痕缺陷位置,測量缺陷3D表面形貌

工業(yè)

  • 無線通訊器件(SAW/BAW/FBAR)

  • 發(fā)光二極管(LED):發(fā)光二極管和PSS(圖形化的藍寶石襯底)

  • 半導體和化合物半導體

  • 半導體WLCSP(晶圓級芯片封裝)

  • 半導體FOWLP(扇出晶圓級封裝)

  • PCB(印刷電路板)和柔性電路板

  • MEMS:微機電系統(tǒng)

  • 醫(yī)療器械和微流體元件


KLA Zeta™-388光學輪廓儀

KLA Zeta™-388光學輪廓儀提供3D量測和成像功能

KLA Zeta™-300光學輪廓儀

KLA Zeta™-300光學輪廓儀可提供3D 量測和成像

KLA Zeta™-Solar光學輪廓儀

全新的KLA Zeta™-Solar光學輪廓儀專為滿足優(yōu)良

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