多功能电子束曝光系统

探索超越电子束曝光功能的纳米工程系统

超高分辨电子束曝光、成像及纳米工程系统

纳米加工领域的瑞士军dao

多用途的纳米光刻系统

eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。

除具有专业的电子束光刻及成像功能，eLINE Plus还*集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件，这使得eLINE Plus成为世界上*的、用途广泛的电子束光刻系统。

纳米工程、纳米操纵，及聚焦电子束诱导过程

1. 先进的热场发射电子光学柱，可得到世jie领xian的小束斑尺寸
2. 开放的可升级的平台理念
3. 广泛的纳米加工工艺
4. 多种探测器，可灵活地实现对准标记识别、成像，及材料分析方面的应用
5. *的无写场拼接的直写模式（traxx /periodixx）
6. Raith NanoSuite软件: 集所有模块于一体的综合软件界面