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PICOSUN 原子层沉积系统ALD R-200 Pro；PICOSUN R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS...

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版；系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件...

PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，...

离子注入机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子...

SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下（ 100ºC）沉积高质量SiO2, S...