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那诺中国有限公司
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Plasma Source等离子体源
  • Plasma Source等离子体源

货物所在地:国外

地: 美国

更新时间:2025-05-15 21:00:07

浏览次数:886

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( 联系我们,请说明是在 化工仪器网 上看到的信息,谢谢?。?/p>

NANO-MASTER (那诺-马斯特)可根据客户需求,提供合适的Plasma Source等离子体源,可以是空心阴极等离子源,也可以是感应耦合等离子源。等离子源可应用于离子辅助镀膜、等离子聚合、等离子清洁、等离子刻蚀、表面改性以及其他材料科学的研究等等。

Plasma Source等离子体源

离子源类型

特征

应用

选项

Plasma Source等离子体源1:

NANO-MASTER

淋浴头等离子体源SH-1000

  • 射频淋浴头等离子体源
  • 气体通过射频板
  • 二级板将其他气体引入等离子体
  • 水冷却
  • zui大600瓦
  • 可在0.02托至8托之间操作
  • 8英寸有效区域
  • ISO 250法兰

 

 

2:

空心阴极13.56 MHz射频等离子体源

 

  • 支持扩展功率和气压范围操作
  • 高浓度高活性高均匀性等离子体(1011 cm-3
  • 兼容化学反应和非化学反应气体
  • 等幅波和脉冲电源
  • 低污染
  • 等离子增强化学气相沉积
  • 等离子聚合
  • 等离子清洁
  • 等离子刻蚀
  • 表面改性
  • 600mm线性等离子源
  • 900mm线性等离子源

3:

SLAN(SLot ANtenna)2.45 GHz微波等离子体源

 

  • 高浓度等离子体
  • 压力范围在10-5毫巴到大气压
  • 兼容化学反应和非化学反应气体
  • 低污染
  • 电子回旋共振(ECR)或非电子回旋共振(non-ECR)操作
  • 等幅波和脉冲电源
  • 等离子增强化学气相沉积
  • 等离子聚合
  • 等离子清洁
  • 等离子刻蚀
  • 表面改性
  • 材料科学
  • 直径4厘米
  • 直径16厘米
  • 直径67厘米

4:

电感耦合等离子体源ICP-P 200(13.56MHz)

 

  • 200毫米直径的平面线圈
  • 扩展功率范围在3-1200瓦
  • 低能量扩散
  • 高浓度高活性等离子体
  • 低污染
  • 等幅波和脉冲电源
  • 等离子增强化学气相沉积
  • 等离子聚合
  • 等离子清洁
  • 等离子刻蚀
  • 表面改性

 

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