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產(chǎn)品分類品牌分類

刻蝕系統(tǒng): RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) ICP及DRIE刻蝕系統(tǒng) IBE離子束刻蝕系統(tǒng) RIE-PE刻蝕機(jī)

沉積系統(tǒng): Parylene派瑞林真空鍍膜系統(tǒng) 進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī) TE熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 磁控濺射系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PLD脈沖激光沉積

生長系統(tǒng): MOCVD設(shè)備 ALD原子層沉積系統(tǒng) MOVPE設(shè)備

清洗去膠系統(tǒng): 等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī) 大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機(jī)

熱真空試驗(yàn)系統(tǒng): 熱真空試驗(yàn)箱熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備空間環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備熱真空系統(tǒng)

核心組件: Platens樣品臺等離子體源

檢測系統(tǒng): 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀

量測系統(tǒng): 晶圓厚度測量儀接觸角測量儀薄膜曲率應(yīng)力測量儀

晶圓加工設(shè)備: 晶圓劃片機(jī)

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產(chǎn)品簡介詳細(xì)介紹

NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發(fā)系統(tǒng)：提供NTE-4000和NTE-3000型號的PC計(jì)算機(jī)控制的熱蒸發(fā)系統(tǒng)，可沉積有機(jī)物和金屬。設(shè)備具有小占地面積、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程、低價格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)?？梢栽谠O(shè)定的RMS電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發(fā)系統(tǒng)

NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：

提供NTE-4000和NTE-3000型號的PC計(jì)算機(jī)控制的熱蒸發(fā)系統(tǒng)，可沉積有機(jī)物和金屬。設(shè)備具有小占地面積、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程、低價格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)?？梢栽谠O(shè)定的RMS電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

zui大可支持7"的方片或200mm的晶圓片
沉積速度可控
旋轉(zhuǎn)的樣品臺
雙坩堝或舟
2KVA SRC控制電源
晶振式膜厚監(jiān)測儀
通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)控制

產(chǎn)品型號：

NTE-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動控制的獨(dú)立系統(tǒng)
NTE-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動控制的緊湊型獨(dú)立系統(tǒng)
NTE-3000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動控制的雙蒸發(fā)源臺式系統(tǒng)
NTE-1000：計(jì)算機(jī)控制的單蒸發(fā)源臺式系統(tǒng)

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