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光學(xué)元件原子級清洗鍍膜系統(tǒng)

光學(xué)元件原子級拋光鍍膜設(shè)備概述：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供的技術(shù)，在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進(jìn)行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計也可以支持其中任一個腔體的單獨(dú)使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。

光學(xué)元件原子級拋光鍍膜設(shè)備應(yīng)用

• Optical Coatings 光學(xué)涂層
• Sputtering  濺射
• IBAD  IBAD離子束輔助沉積
• Ion Beam Etching Cleaning  離子束刻蝕清洗
• Ion Beam Assisted Reactive Etching 離子束輔助反應(yīng)刻蝕
• Infrared Coatings  紅外涂層
• Surface Treatment   表面處理

產(chǎn)品特點(diǎn):

• RF Biasable Platen  RF射頻偏壓樣品臺
• Thickness Monitor   膜厚監(jiān)測儀
• 5x10-7 Torr Base Pressure  極限真空5x10-7Torr
• High Accuracy and Repeatability  高精度及高重復(fù)性
• High Quality Films  高品質(zhì)膜層
• Atomic Level Clean Surfaces   原子級的潔凈表面
• Atomic Cleaning and Polishing  原子級清洗和拋光
• PC Controlled with LabVIEW  通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機(jī)全自動控制
• Automatic Load/Unload  自動上下載片
• Automatic Transfer Between Chambers  兩個腔體之間自動傳送
• Recipe Driven, Password Protected 菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護(hù)
• Safety Interlocks 完整的安全聯(lián)鎖
• 46"D x 44"W Footprint  占地面積46"D x 44"W

選配項:

• Sputter Down/Up  向下/向上濺射
• Co-Sputtering 共濺射
• DC, RF and Pulsed Power Supplies  DC，RF以及脈沖電源
• Ion Beam Assisted Deposition 離子束輔助沉積
• E-Beam Sources 電子束源
• Plasma Sources 等離子源