2019年7月16日，我司成功中标西安电子科技大学等离子增强化学气相沉积设备采购招标项目。
本项目选用NANO-MASTER设计生产的NPE-4000系统，该系统为紧凑型设计PC 控制的独立式下游式PECVD系统，占地面积仅为26”x44”（包含自动Load Lock 单元）,不锈钢立柜。
本设备有以下主要突出优势：
- 根据客户的具体应用和需求，配置NANO-MASTER设计的中空阴*密度离子源。带淋浴头的平面离子源，具有离子密度高、电子温度低以及腔体占空比低的特点，从而带来高速、超低损伤，以及快速反应周期的优势，以实现低损伤高速率的沉积。
- 配置NANO-MASTER先进的OES&EPD光发射谱终点监测功能，可以涵盖所有可见光波长范围，并通过LabView 软件控制该终点监测系统。
- 系统标准配置的RF 射频电源为13.56MHz 600W 电源，配套自动调谐器给离子源供电，并配套300W低频电源用于薄膜应力控制。
- 系统标准配置的真空泵组包含涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达到6x10-7Torr。涡轮分子泵与腔体之间的直连设计，系统可获得优异的真空传导率，20分钟可达到10-6Torr量级的高工艺真空，12小时达到10-7Torr腔体极限真空。腔体压力调节通过PC自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。
- 系统可支持单片或25片Cassette的Auto L/UL的升级，可实现自动进样、对准、出样，在不间断工艺腔体真空的情况下连续处理样片。Load Lock 腔体配套独立的真空系统和真空计，通过PC全自动监控。
近，那诺中国中标喜讯频传，这离不开客户对NAN0-MASTER综合实力的认可与信任。在未来，我们将会继续秉承初心，用科技的力量实实在在助力客户，实现更高水平的薄膜生长刻蚀技术。
