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  • NTE-4000(M)热蒸发系统

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  • 全自动热蒸发系统

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  • NTE-3500(M)热蒸发系统

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  • NTE-3000热蒸发系统

    NTE-3000热蒸发系统:NTE-3000是PC控制的台式热蒸发系统,在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺...

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  • 全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统

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  • ICPECVD等离子体化学气相沉积系统

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  • 全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统

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  • NPE-4000(M)PECVD等离子体化学气相沉积系统

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  • NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统

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  • NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统

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  • NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统

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  • 磁控溅射系统

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  • NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统

    NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵...

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  • NSC-3000(M)磁控溅射系统

    NSC-3000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-...

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  • NSC-1000磁控溅射系统

    NSC-1000磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 T...

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  • NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机

    NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机:*进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套...

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