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化学气相?沉积法CVD（Chemical Vapor Deposition）是近年发展起来的制备无机材料的新技术。此方法是利用气态或蒸汽状态的物质在固体表面上进行化学反应，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。其中，用氢气还原卤化物来制备各种金属或多晶硅薄膜是为常用的化学反应，此还原反应的方法应用范围广泛，可制备单晶、多晶以及非晶薄膜，另外也容易掺杂。

作为反应中*的还原气体，氢气在CVD反应中扮演着极其重要的作用。通常实验室如今还在使用传统的氢气钢瓶作为氢气气源，但是氢气钢瓶不仅搬运、使用不便，而且氢气是易燃易爆气体，存在极大的安全隐患。因此，氢气发生器便成为了代替氢气钢瓶的选择。如今，Peak氢气发生器已广泛应用于CVD实验，是化学气相沉积应用的可靠安全的氢气气源。

应用优势：

1.高纯度

作为反应中*的还原气体，高纯度氢气在CVD反应中扮演着极其重要的作用。

氢气中微量氧或水蒸气等杂质会对沉积过程产生很大影响，当有氧存在时，沉积物的晶粒剧烈生长，并伴有分层现象出现。

Peak氢气发生器采用三重过滤技术，所产氢气纯度＞99.9999%，氧气含量< 1ppm，水含量< 1ppm，过滤技术及氢气纯度都为市场。

Peak高纯氢气发生器

2.安全性

Peak氢气发生器因其即产即用、按需供给的特点，成为极为安全、可靠的氢气气源。

Peak氢气发生器采用PEM质子交换膜电解纯水的原理产生高纯氢气，无需添加碱液，即插即用，使用方便，而且具有开机自检、压力报警等特性，全面保障发生器的安全性。

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