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1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空） 参考价：面议
BTF-1200C-II-CVD1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成，根据工艺要求亦可选...
低真空CVD系统 参考价：面议
低真空CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1500度高温管式炉组成。其广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
迷你型CVD系统 参考价：面议
BTF-1200C-S-CVD迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
滑轨式CVD石墨烯生长系统 参考价：面议
滑轨式CVD石墨烯生长系统是专为生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验，温区可独立程序控制，设备操作时可将实验需要的...
迷你型CVD系统 参考价：面议
迷你型CVD系统控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
回转CVD设备 参考价：面议
回转CVD设备：1、本设备提供一个五温区的超长温场，五个温区可独立控制2、保温材料采用氧化铝纤维防尘处理，上下可电动开启。3、流量计和加热采用模块化设计，便于维...
摇摆炉 参考价：面议
摇摆炉BTF-1200C-SK1.，30段可编程精密温度控制器2.可根据不同的客户需求来设定升降温程序3.可设定取放料工位4.设定摇摆起始工位（如横向作为起始工...
非气态源化学气相沉积系统 参考价：面议
非气态源化学气相沉积系统1.前驱体灌温度可达400℃；2.温度独立可调；3.固态或液态前驱体在一定温度下蒸发后通过惰性气体带入反应区域参与的一些CVD反应。
流化床CVD系统 参考价：面议
流化床CVD系统—化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管设备，该设备包括有：自动加液装置、超声波雾化发生装置、气体供应装置、气体流量控制装置、三温区流化床反应器及...
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