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间歇式CVD回转炉 参考价：面议
间歇式CVD回转炉由控制柜和加热炉组成，控制柜为密封壳体，内置电路板和气路板，外部可通过触摸屏及 手阀操控电路和气路；加热炉由一台三温区开启式管式炉及相应配件组...
立式流化床-多壁碳纳米管制备设备 参考价：面议
1、气体先经过气体预热炉预热后进入流化床反应腔体，可以降低大量冷气流进入腔体对工艺的影响。2、反应器出口配有搅动装置， 防止碳管在反应器出口堵塞。3、进液口附近...
1600℃多源高温CVD系统 参考价：面议
这是一台1600℃多源高温CVD系统。电气控制采用内置控温仪表，其控温精准且操作直观简便。炉管为刚玉管，左端法兰为进气端，配有压力?；ぷ榧?个进气口，其中一路...
小型浮动催化系统CVD系统 参考价：面议
BTF-1500C-CVD是小型浮动催化系统CVD系统，配备真空系统，可以低压条件下进行实验；设备配有双向推拉注射泵、氧分析仪、防爆控制柜、收集罐、密封腔室等组...
多功能回转CVD系统 参考价：面议
多功能回转CVD系统由加热系统、炉管转动系统、供气系统、真空系统，工控及操作系统等结构组成。
等离子增加化学气相沉积CVD系统 参考价：面议
BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨等离子增加化学气相沉积CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体，并将所有控制集成于触屏操...
自动进出料回转CVD系统 参考价：面议
自动进出料回转CVD系统产品简介：1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~...
立式碳纳米管制备设备 参考价：面议
BTF-1200C-3VT-D100是一台实验级立式碳纳米管制备设备。设备加装石英管和石英内管（带砂芯）各一支、三温区加热炉一台、收集罐及配套的密封上下横向法兰...
回转CVD系统 参考价：面议
该设备是定制回转CVD系统，可实现一次加3L粉料进行生产；从结构上共分成主体设备、上料机构、收料机构三大模块。
连续进出料回转CVD系统 参考价：面议
该款CVD设备配备加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等。设备广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料...
二维材料设备CVD系统 参考价：面议
二维材料设备CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的...
微型PECVD系统管式炉 参考价：面议
微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-100W可调； 温度范围宽：...
智能型滑轨式CVD系统 参考价：面议
BTF-1200C-SL-L-CVD是一款智能型滑轨式CVD系统。该设备主要分为五大部分：加热系统，真空系统，气体控制供给系统，自动控制移动系统，控制软件系统组...
CVD系统 参考价：面议
CVD系统是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组...
二维材料制备 参考价：面议
二维材料制备CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的...
碳纳米管 参考价：面议
流化床—粉体碳纳米管生长设备通过流量计和静态混气室把气体均匀混拌，通过上通气，气体通过双层管（夹层管预热气体，内腔体生长碳纳米管）确保通入的气体进入生长腔体内温...
高真空自动循环设备 参考价：面议
BTF-1200C-HV高真空自动循环设备内外双热电偶控制，内热电偶制动，使用者可以设定设备循环温度点，可根据内热电偶测得的温度制动，推动炉管进出加热腔体，整个...
复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备 参考价：面议
复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备，可以实现在多孔氧化铝陶瓷管和陶瓷片上化学沉积上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和复合氧化物（Al2O3-S...
双炉膛滑动CVD控制系统 参考价：面议
双炉膛滑动CVD控制系统操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环...
连续进出料回转CVD生长设备 参考价：面议
连续进出料回转CVD生长设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。
大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境） 参考价：面议
BTF-1200C-III-SL-4ZL大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境）控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶...
双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源） 参考价：面议
双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）具有两个独立的温场，温场之外配有磁力拉杆和石英料舟，并配有内探热电偶，可实现在实验过程中将固态源（如硫粉、硒粉等）推进...
双独立温区滑轨炉CVD设备（可于生长硫化钼） 参考价：面议
双独立温区滑轨炉CVD设备（可于生长硫化钼）提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位...
小三温区滑轨CVD 参考价：面议
小三温区滑轨CVD控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能.
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