您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
貨物所在地：上海上海市
更新時(shí)間：2025-03-27 21:00:08
有效期：2025年3月27日 -- 2025年9月27日
已獲點(diǎn)擊：88
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 化工儀器網(wǎng)
特征：
半導(dǎo)體用Photomask Blanks的出廠檢查、工藝評價(jià)
用微分干涉顯微鏡分析缺陷
檢查對象：Photomask Substrate、Cr、Resist、MoSi
檢查項(xiàng)目：顆粒、內(nèi)部缺陷（Option）
檢查靈敏度：PDM缺陷尺寸0.1μm（AI00）
定期支持裝置安裝完成后的性能維持。
24小時(shí)電話對應(yīng)，全年無休的安心支持。
認(rèn)真對待客戶新的要求。
召開技術(shù)研討會(huì)和充實(shí)各種手冊，讓顧客能夠自行維護(hù)和更換零件。
提供HDD、激光光源等消耗品的免費(fèi)診斷服務(wù)。
請輸入賬號(hào)
請輸入密碼
請輸驗(yàn)證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
員.png)
6
