EVG101-勻膠機 勻噴膠機 光刻膠處理機
      基本功能：研發(fā)和小規(guī)模生產中的單晶圓光刻膠加工。

一、 簡介
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)（EVG101 勻膠機 勻噴膠機 光刻膠處理機）在單室設計上可以滿足研發(fā)工作，與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG先進的OmniSpray涂層技術，在3D結構晶圓上實現光刻膠或聚合物的共形層，用于互連技術。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗，同時改善了均勻性并防止了擴散。
二、技術參數：
晶圓尺寸：高達300mm(12寸)
支持模式：旋涂/ OmniSpray®/生長
晶圓支撐模式：單臂/雙EE/邊緣/翻動
分配模式：
- 各種分配泵，可覆蓋高達52000cP的各種粘度
- 恒壓分配系統(tǒng)
- EBR / BSR /預濕/碗洗/液體灌注

EVG101-勻膠機 勻噴膠機 光刻膠處理機

三、特征：
晶圓尺寸可達300 mm
自動旋涂或噴涂或使用手動晶圓裝載/卸載進行顯影
利用從研究到生產的快速簡便的過程轉換
成熟的模塊化設計和標準化軟件
注射器分配系統(tǒng)，用于利用小的光刻膠體積，包括高粘度光刻膠
占地面積小，同時保持高水平的個人和過程安全性
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言)
選項：
- 采用OmniSpray®涂層技術均勻涂覆晶圓的高表面形貌
- 用于后續(xù)鍵合工藝的蠟和環(huán)氧樹脂涂層
- 旋涂玻璃(SOG)涂層