石墨烯（Graphene）自2004年发现以来，在短短数年间已经成为凝聚态物理、化学、生命科学、材料科学等领域研究中倍受瞩目的“明星材料”。几年内，在SCI杂志上，发表了上万篇关于石墨烯的文章，这种研究热度将维持很长时间。
化学气相沉积（CVD）是目前制备石墨烯的zui有效、也是研究价值的方法。但搭建一套完整而高效的石墨烯化学气相沉积系统并非易事。即使在系统搭建完成后，要真正制备出单层石墨烯，还需要长时间的参数优化。往往使得科研人员错过了*的研究时机。
G－CVD石墨烯化学气相沉积系统由北京科锐精仪公司与国内*石墨烯研究机构合作开发，提供完整的石墨烯生长系统?？芍票父咧柿看竺婊▃ui大厘米量级）
系统内置了在不同衬底上制备石墨烯所需要的参数，用户只需简单的选择衬底类型，可以轻松的制备出自己的石墨烯。为研究人员节省大量时间。
同时，G－CVD还可用于纳米金刚石、碳纳米管，及其它材料的CVD生长制备。
主要参数：
样品腔
温度范围：室温~1050度
功率：2.5 kW
末端口：不锈钢法兰接口，外置水冷却
进样方式：手动
气路及真空
气体：
Ar 纯度99.99%以上，40L，配惰性气体减压阀，流量0~1000 sccm；
H2 纯度99.999%，40L，配氢气减压阀，流量0~200 sccm；
CH4 纯度99.999%，40L，配减压阀，流量0~10 sccm （更大量程可?。?/font>
13CH4 纯度99.999%，10L，配减压阀，流量0~10 sccm （限同位素CVD系统）；
机械泵：
抽速400 L/min，极限真空5x10-3 Torr，油雾过滤
液氮冷阱：用于获得更高真空（可选配件）
过压泄气阀：大于760Torr，自动开启
真空调节阀：调节样品腔内的气压，手动（自动控制式可选）
控制?？椋?/font>
温度、气流及真空采用计算机控制，其中部分功能也可以采用手动控制。计算机实时控制和显示所有与生长有关的实验参数，自动保存实验参数，给实验带来*的方便，并提高实验的精确性。
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