CY-MSZ180-I-DC-Q 下置四靶磁控溅射镀膜仪
参考价 | ¥ 80000 |
订货量 | ≥1件 |
- 公司名称 郑州成越科学仪器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 CY-MSZ180-I-DC-Q
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/12/20 16:52:10
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产地类别 | 国产 | 价格区间 | 1-5万 |
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应用领域 | 地矿,能源,建材/家具,电子/电池,钢铁/金属 |
简单介绍:
四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜。
详情介绍:
我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪,设备配有两台直流电源,两台射频电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。
下置四靶磁控溅射镀膜仪采用靶下置布局,样品台在上方,与靶面高度可通过程序**可调,并且可旋转加热,性能优异。
技术参数:
产品名称 | 下置四靶磁控溅射镀膜仪 | |
产品型号 | CY-MSH500X-Ⅳ-DCDCRFRF-SS | |
供电电压 | AC220V,50Hz | |
整机功率 | 6KW | |
极限真空度 | 5x10-4Pa | |
样品台 | 尺寸 | 150mm |
高度 | 上下70mm**可调 | |
加热温度 | ≤850℃ | |
转速 | 1-20rpm | |
磁控溅射头参数 | 数量 | 4个2”磁控溅射头 |
冷却方式 | 水冷,所需流速10L/min | |
水冷机规格 | 10L/min流速的循环水冷机 | |
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ500mm X550mm H |
腔体材料 | 不锈钢 | |
观察窗口 | φ100mm | |
开启方式 | 前开门式 | |
气体流量控制器 | 1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM Ar; | |
真空泵 | 配有一套分子泵系统,抽速1200L/S | |
膜厚仪 | 石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 ? | |
溅射电源 | 直流电源2台,500W,适用于制备金属膜 射频电源2台,500W,适用于非金属镀膜 | |
操作方式 | CYKY自研专业级控制系统 | |
整机尺寸 | 1250mm X 1000mm X2000mm | |
整机重量 | 500kg |