真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中频电源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

层数（Electrode of plies）

6（Option）

有效处理面积（Area）

500（L）*500（W）（Option）

气体通道（Gas）

两路工作气体可?。?Ar、N2、CF4、O2

产品特点：处理空间大，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。

保养维修成本低，便于客户成本控制。

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。

应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。

等离子清洗产品前要做哪些准备呢

等离子清洗机设备的工作原理：以气体为清洗介质，能有效地避免液体清洗介质对清洗物体的二次污染。通过外置真空泵，清洗腔体内的等离子体冲刷待清洗物体的表面，可以在短时间内*清洗有(机)污染物。同时污染物被真空泵抽走，从而达到清洗的目的。在特定的环境中，其属性可以根据不同的材料表面而改变。等离子体作用于材料表面，重组材料表面的分子化学键，形成新的表面特性。
等离子清洗设备的基本构造：
根据使用的需要，可以选择多种结构的等离子清洗设备，也可以选择无用气型，通用的调节装置包括真空室、真空泵、高频电源、接触器、气体输入系统、工作输送系统和控制系统等。真空泵一般采用旋转泵，高频电源一般采用13.56兆赫无线电波，工作流程如下:
1.清洁后的工件送入真空室并固定好，启动运转装置，开始排气，使真空室的真空度达到10帕标准真空。通常的排气时间大约2毫秒。
2.向真空室中注入等离子清洗用的气体，并保持压力为100pa。根据不使用的清洁材料，可以选择氧气、氢气或氮气。
3.对真空室电极和接地装置之间施加高频电压，会引起气体破裂，产生离子化作用，使电浆通过辉光放电产生电浆。将真空室产生的等离子体完(全)覆盖在处理后的工件上，并开始清洗操作。一般的清理过程会持续几十秒到几分钟。
4.清洁完毕后，切断高频电压，把气体和蒸发的污物排出，同时把气体压入真空室内，使空气压力升高，使空气压力上升。