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光谱椭偏仪是一种高精度的光学测量仪器，主要用于分析材料的光学性质(如折射率、消光系数)、薄膜厚度(从纳米到微米级)以及表面/界面的微观结构信息。其核心原理是利用光的偏振状态在材料表面反射或透射后的变化，通过解析这种变化反推材料的物理特性，广泛应用于半导体、光学薄膜、纳米材料、生物医学等领域。
该设备在操作时可以不接触、无损测量，不破坏样品；厚度测量可达亚纳米级；无需标记或预处理，适用于多种材料。
选购光谱椭偏仪时可以关注以下几点：
1、光谱范围：根据测量材料的光学特性选择合适的光谱范围。例如，透明材料需关注折射率光谱区域，短波吸收材料可扩展至红外透明区域以确定厚度。
2、测量精度与重复性：精度是核心指标，需通过标准样品(如空气)验证准确性；重复性则反映仪器稳定性，需多次测量对比结果。
3、入射角方式：多角度测量可提高可靠性，但并非所有场景都需要。多层膜、吸收膜等复杂结构需多角度测量，而简单薄膜单角度即可。
4、分析软件：椭偏仪测量为非直接测量，数据需拟合分析。软件应具备丰富的材料数据库、灵活的模型构建能力和高效的算法，以支持快速、准确的参数反演。
5、硬件配置：根据需求选择旋转补偿器、自动变角基座、汇聚束技术等硬件。
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