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在光电子、成像技术以及人工智能等前沿领域，微透镜阵列加工工艺要求严苛，关乎性能优劣与应用拓展，以下从多方面剖析关键要点。
材料遴选是根基，需兼顾光学特质与机械稳定性。石英凭借超高透过率、低折射率温度系数，成为紫外至近红外波段理想选择，能精准聚焦光线，减少色差干扰；聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）因良好塑形性、较轻质与适中折射率，适配红外成像及轻量化需求场景，利于大规模制备。选定材料后，严格把控纯度，微量杂质都可能散射光线、降低阵列均匀性。
精度把控贯穿加工全程，尺寸公差近乎“毫厘必究”。单颗微透镜直径偏差需控制在亚微米级，确保阵列排列紧密、间距均匀，否则光路紊乱，成像失真或耦合效率骤降；表面粗糙度同样要求达纳米级，光滑表面保障光线折射、反射遵循设计轨迹，减少散射损耗，这对加工设备分辨率、工艺稳定性提出高挑战。
工艺环节环环相扣，光刻技术利用深紫外光刻，将设计图案精准转移至基底，分辨率可达百纳米以下，勾勒微透镜雏形轮廓；接着蚀刻工艺接力，干法蚀刻各向异性佳，能垂直刻蚀材料，保证透镜侧壁陡直，湿法蚀刻则靠化学溶液选择性腐蚀，柔化边缘或调整曲率，二者配合雕琢出理想曲面形态。热熔成型亦关键，精确控制温度、时间，让材料在固态下流动重塑，修正曲率误差，塑造高精度光学表面。
检测环节原子力显微镜轻触扫描，绘出三维表面轮廓，量化粗糙度、曲率半径；光学检测系统模拟实际光路，投射平行光，分析聚焦、衍射效果，实时反馈加工瑕疵，以便及时回炉返工。从材料甄选到精雕细琢，再到严苛检测，微透镜阵列加工步步为营，赋能科技迈向更高性能维度。
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