手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
本文主要講解關(guān)于硅片超聲波清洗機的主要應(yīng)用
硅片超聲波清洗機是一種用于半導(dǎo)體制造和光伏電池生產(chǎn)中硅片表面污染物清除的工業(yè)級設(shè)備。其主要功能是通過超聲波技術(shù)去除硅片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)及氧化層等污染物，同時保持晶片表面特性不受損。
硅片超聲波清洗機利用超聲波在液體中傳播時產(chǎn)生的壓強波動，形成微小氣泡并在瞬間崩潰時釋放出強烈沖擊力，將污物從硅片表面剝離。適用于帶有復(fù)雜幾何形狀的硅片。
硅片超聲波清洗機廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中的硅片晶圓及相關(guān)器皿的表面污染物清除，適用于擴散前、光刻后、氧化前等關(guān)鍵環(huán)節(jié)的清洗需求。在光伏電池生產(chǎn)中，該設(shè)備以其微米級的清洗精度和智能化的工藝控制，成為硅片制造環(huán)節(jié)的關(guān)鍵裝備，能夠有效去除切割損傷層、微米級雜質(zhì)及有機物污染。
硅片超聲波清洗機的工作原理主要依賴于超聲波空化效應(yīng)。當(dāng)超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動時，清洗液中的氣泡會迅速膨脹并破裂，這個過程會產(chǎn)生瞬時高溫和高壓沖擊波，從而剝離硅片表面的污染物。具體來說，超聲波空化效應(yīng)在清洗液中產(chǎn)生數(shù)百萬個微小氣泡，這些氣泡在破裂時會釋放出大的能量，有效去除硅片表面的顆粒、殘留光刻膠或氧化層。
硅片超聲清洗機的核心原理基于超聲波空化作用：
超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻電信號(頻率范圍通常為20kHz-120kHz)，通過換能器轉(zhuǎn)化為機械振動，在清洗液中形成無數(shù)微小氣泡。
氣泡在聲壓作用下快速膨脹并破裂，產(chǎn)生局部高溫(約5000K)和高壓(約1000atm)，形成沖擊波，剝離硅片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)及自然氧化層。
高頻超聲(40kHz以上)適用于小顆粒污垢清洗，避免損傷硅片表面；低頻超聲(20-40kHz)則更適合去除頑固污染物。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心