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半導體生產(chǎn)過程中使用的有害氣體

來源:廣州市諾達電子有限公司   2025年06月23日 08:19  

半導體生產(chǎn)過程中使用的有害氣體主要包括砷烷(AsH3)、磷烷(PH3)、氨(NH3)、硫化氫(H2S)、氯氣(Cl2)等1。這些氣體在生產(chǎn)、灌裝、儲存、運輸和使用過程中,若發(fā)生泄漏,會對空氣質(zhì)量產(chǎn)生以下影響:

  1. 污染大氣:有毒氣體的泄漏會直接污染大氣,導致空氣質(zhì)量下降。這些氣體可能在大氣中形成有害的化合物,影響人類和其他生物的呼吸健康。

  2. 影響環(huán)境和人體健康:長期接觸或吸入這些有毒氣體,會對人體的呼吸系統(tǒng)、神經(jīng)系統(tǒng)、消化系統(tǒng)等多個系統(tǒng)造成損害。例如,砷烷和磷烷等氣體可導致神經(jīng)中毒,氨和硫化氫等氣體則可能引發(fā)呼吸道疾病。

綜上所述,半導體生產(chǎn)中的有害氣體如果發(fā)生泄漏,會對空氣質(zhì)量造成嚴重污染,并對環(huán)境和人體健康產(chǎn)生負面影響。因此,在半導體生產(chǎn)過程中,必須嚴格遵守安全操作規(guī)程,采取有效的防護措施,以防止有害氣體泄漏,保護環(huán)境和公眾健康


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