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什么是光刻胶？光刻工艺中使用的感光化学剂这意味着。这种液体化学剂用于需要精细加工的领域，例如半导体制造和印刷电路板图案化。光致抗蚀剂具有响应光而发生化学变化的特性。
光刻胶主要有两种类型：正型和负型。
正性光刻胶：
受到紫外线照射时发生化学反应，光刻胶溶解（溶解）。然后用显影剂处理去除曝光区域，留下未曝光区域。
负性光刻胶：
暴露在紫外线下会发生化学反应，光刻胶变硬（不溶解）。然后用显影液处理抗蚀剂，仅留下曝光区域并去除未曝光区域。
光刻胶是形成精细电路和图案的bi备材料，其质量和性能直接影响产品的精度和可靠性。。制造过程（光刻）涉及光刻胶涂覆、曝光和显影步骤，准确控制这些步骤非常重要。
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