热化学气相沉积-热CVD技术

化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中，把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜。北方华创微电子凭借十余年的微电子领域工艺设备开发经验，先后完成了PECVD、APCVD、LPCVD、ALD等设备的开发，致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备，满足客户多种制造工艺需求。

热CVD设备型号：HCVD400-40 / 工作温度：800℃

套装内容：管式炉、控制器、石英炉芯管、法兰、支架、龙门架
　　　　　　　* 讨论了龙门架的形状和尺寸、燃气类型、流量计、燃气管道、阀门部件。