雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

　　雙靶磁控濺射儀操作規(guī)范：

　　雙靶磁控濺射儀開機

　　1、打開冷水機。設定溫度：冬天10-15℃，夏天5℃

　　2、打開放氣閥破真空，然后關閉放氣閥（之后整個工作過程務必保證放氣閥均是關閉狀態(tài)。本機閥門均是逆時針打開，順時針關閉）

　　3、打開總控電源

　　4、打開真空計（電阻單元真空范圍10Pa，電離單元0.1-10-6Pa）

　　5、打開燈，檢查鍍膜腔是否關緊（觀察腔四周是否有光線）

　　6、打開機械泵電磁閥，此時務必保證放氣閥已經(jīng)關閉?。?！

　　7、打開預抽閥

　　8、當壓強達到10Pa以下打開分子泵→運行→關閉預抽閥→*打開插板閥

　　雙靶磁控濺射儀使用

　　1、當腔內壓強真空度達到要求后，打開氣罐（指針調至刻度1-2之間），關小插板閥，儀器的工作氣壓為1-10Pa。

　　2、關閉電離單元按下“自動”→電離→打開進氣閥→流量計（mL/min）

　　3、在保持輸入氣體比例基本不變的條件下調節(jié)進氣量或者調節(jié)插板閥使氣壓處于1-10Pa，是5Pa，流量計開關一般在“閥控”。

　　4、打開射頻開關“ON”觀察有無起灰，若無起灰再調節(jié)功率或進氣量 關機

　　氣體流量計歸零→關閉狀態(tài)→關閉進氣閥→關閉控氣閥→關閉插板閥→關閉氣瓶→射頻/直流功率歸零→“OFF” →溫度電源歸零關閉→流量計關閉→分子泵停止待轉速歸零→關閉開關→關閉電磁閥→關閉機械泵→放氣閥打開→放完氣以后關閉。