對于導(dǎo)電性不好的試樣，我們通?？梢赃x擇離子濺射儀鍍膜處理。通常情況我們選擇鍍金Au膜，如果對分辨率有較高的要求，可以選擇鍍鉑Pt、鉻Cr、銥Ir。如果要對樣品進(jìn)行嚴(yán)格的EDS定量分析，則不能鍍金屬膜，因?yàn)榻饘倌射線有較強(qiáng)的吸收，對定量有較大影響，此時可選用蒸鍍碳膜。

　　現(xiàn)在的鍍膜設(shè)備一般都能精確控制膜厚，通常鍍5nm的薄膜就足夠改善導(dǎo)電性，對于有些特殊結(jié)構(gòu)的試樣，比如海綿或泡沫狀，表面不致密，即使鍍較厚的導(dǎo)電層，也難以形成通路。所以我們鍍膜盡量控制在10nm以下，如果鍍10nm的導(dǎo)電膜仍沒有改善導(dǎo)電性，繼續(xù)增加鍍膜也沒有意義。一般鍍金的話在10萬倍左右就能看見金顆粒，鍍鉑的話可能需要放大到20萬倍才能看見鉑顆粒，而鍍鉻或者銥則需要放大到接近30萬倍。所以對于導(dǎo)電性不好的試樣來說，可以根據(jù)需要選擇不同的鍍膜。離子濺射儀鍍膜之后，由金屬膜代替試樣來發(fā)射二次電子，而一般鍍的金、鉑都有較高的二次電子激發(fā)率，在鍍膜之后還能增強(qiáng)信號強(qiáng)度和襯度，提升圖片質(zhì)量。只要鍍膜不會掩蓋試樣的真實(shí)細(xì)節(jié)，*可以進(jìn)行鍍膜處理，而不用糾結(jié)于一定要不鍍膜進(jìn)行觀察，除非有特別不能鍍膜的要求。當(dāng)然，對于要求倍數(shù)特別高或者嚴(yán)格測量的一些觀察要求，則要謹(jǐn)慎鍍膜處理。畢竟在高倍數(shù)下，鍍膜會掩蓋一定的形貌，或者使測量產(chǎn)生偏差。

除了不導(dǎo)電樣品需要鍍膜，對于一些導(dǎo)熱性不佳的試樣，有時也需要鍍膜。電子束轟擊試樣時，很多能量轉(zhuǎn)變成熱能，使得轟擊點(diǎn)溫度升高，升高溫度表達(dá)式為

ΔT(K) = 4.8 × VI / kd

其中，V為加速電壓、I為束流、d為電子束直徑，k為試樣熱導(dǎo)率。對于導(dǎo)熱性差的試樣，k較低，ΔT有時能接近1000K，很容易對試樣造成損傷。比如有時候?qū)Ω叻肿訕悠愤M(jìn)行觀察時，會發(fā)現(xiàn)樣品在不斷的變化，其實(shí)是樣品受到電子束轟擊造成了輻照損傷損傷。而經(jīng)過離子濺射儀鍍膜后，可以提高熱導(dǎo)率，降低升溫程度，避免樣品受到電子束輻照損傷。