將基線和干擾元素校正（IEC）技術與電感耦合等離子體光學發(fā)射光譜法結合使用，以校正分析信號中來自等離子體、基質或分析物以外元素的貢獻。如果沒有對來自這些成分的貢獻進行準確校正，則會導致分析結果錯誤。但是，這兩種校正技術均依賴于內(nèi)插或外推的校正因子。本文介紹了珀金埃爾默公司開發(fā)的多譜線光譜擬合（MSF）技術。
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