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[供應(yīng)]高純氣體氫分析氦離子色譜儀
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  • 高純氣體氫分析氦離子色譜儀
產(chǎn)地:
北京北京北京市海淀區(qū)清河小營橋
更新時間:
2024-11-05 09:02:00
有效期:
2024年11月5日 -- 2025年11月5日
已獲點擊:
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產(chǎn)品簡介

高純氣體氫分析氦離子色譜儀:GC-9280型高純氫分析氦離子色譜儀適用于高純氫氣中O2(Ar)、N2、CH4、CO、CO2等痕量雜質(zhì)的檢測,儀器配備高靈敏度的氦離子化PDHID檢測器,采用中心切割與反吹技術(shù),配置具有吹掃保護氣路的進樣切換閥和進口氦氣純化器,通過無死體積取樣或在線進樣方式,一次性完成高純氫氣中上述雜質(zhì)的檢測,檢測限達ppb級,重復(fù)性RSD≤1%。

詳細介紹

GC-9280型高純氣體氫分析氦離子色譜儀適用于高純氫氣中O2Ar)、N2、CH4CO、CO2等痕量雜質(zhì)的檢測,儀器配備高靈敏度的氦離子化PDHID檢測器,采用中心切割與反吹技術(shù),配置具有吹掃保護氣路的進樣切換閥和進口氦氣純化器,通過無死體積取樣或在線進樣方式,一次性完成高純氫氣中上述雜質(zhì)的檢測,檢測限達ppb級,重復(fù)性RSD≤1%。



高純氣體氫分析氦離子色譜儀適用標準:

  • · GB/T3634.2-2011 《純氫、高純氫和超純氫》

  • · GB/T 28726-2012《氣體分析 氦離子化氣相色譜法》

檢測限(ppb):

一般雜質(zhì)

雜貨種類

O2Ar)

N2

CH4

CO

CO2

檢測限

10

10

5

25

5

系統(tǒng)配置:

1)GC-9280型氦離子色譜儀               (2)氦離子化檢測器(PDHID)
3)中心切割系統(tǒng)                             (4)多柱箱系統(tǒng)
5)氦氣純化器                               (6)標準氣體
7)色譜柱                                   (9)氧吸附與還原系統(tǒng)
10)載氣專用減壓閥                      11)無死體積專用取樣閥
12)PR-3000型色譜工作站

性能特點

進樣口流量、色譜柱載氣流量,檢測器氣體流量,精密控制

多種進樣口可配:填充柱進樣口(帶隔墊吹掃,可接大口徑毛細管柱)、分流/不分流毛細管進樣口、程序升溫冷柱頭進樣口揮發(fā)性組分串接進樣口(專配與頂空/吹掃捕集/熱脫附等樣品預(yù)處理裝置);

檢測器設(shè)計

特殊陶瓷化處理的放大板,在潮濕季節(jié)始終穩(wěn)定,自動點火,氫氣泄露自動保護功能,安全可靠。

精密控制程序升溫與爐膛溫度,精準的爐溫跟蹤設(shè)計

爐膛內(nèi)部控制精度小于0.01℃;內(nèi)部各點之間的溫差不大于1℃;快速升溫及降溫,程序升溫速度120℃/min;平衡時間10秒;降溫時間(300℃到50℃)6min;控制的溫度準確度(與實際溫度相差小于0.1℃)。

全進口的閥配置系統(tǒng)

最多搭載8個閥(四通閥、六通閥、十通閥以及液體進樣閥可選);自動控制、序列運行;0泄露吹掃技術(shù);高速切換電磁閥壽命長(100萬次,10mS)。

獨立加熱小柱箱

多柱色譜系統(tǒng)中,可以分別設(shè)定不同柱子的使用溫度,從而達到每根柱子優(yōu)質(zhì)分離效果;

氣路切割技術(shù)的方便實現(xiàn)

可實現(xiàn)多維色譜功能完成復(fù)雜樣品的分離分析,可實現(xiàn)色譜柱的反吹功能來節(jié)省分析時間和周期;

技術(shù)指標

柱溫箱

控溫范圍

室溫+5℃~450℃;

溫度設(shè)定精度

0.1℃

程序升溫速度

60℃/min

程升階數(shù)

8階程序升溫

程升速率

0.1~120℃/min(增量0.1℃)

最大運行時間

999.99分鐘

可運行柱流失補償(雙通道)

加熱區(qū)

6個獨立控制加熱區(qū)控制(不包括爐箱溫控,兩個進樣口、兩個檢測器、;兩個輔助加熱區(qū)

輔助加熱區(qū)使用溫度

300℃

檢測器

氦離子化檢測器(PDD)

放電模式:

  • 脈沖放電

基線噪聲:

  • ≤0.1mv

  • 基線漂移:

  • ≤0.5mv/30min



檢測限:

  • ≤1.0×10-10g/ml

載氣純化器

可純化氣體:

  • He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn

操作壓力:

  • 1000Psi

去除氣體:

  • H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3、CF4等

殘留濃度:

  • ≤10ppb



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