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過程氣工藝氣全組分分析方案KNV-CMC0096

閱讀:494      發(fā)布時間:2020-7-10
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• 四通道快速分析方案,10分鐘內(nèi)實(shí)現(xiàn)包含氧化合物在內(nèi)的工藝氣全組分分析;

• 在烴分析通道氧化物、水等極性較大組分在預(yù)柱中反吹,不進(jìn)入分析柱;

• 氧化物分析通道實(shí)現(xiàn)醇,醚,醛,酸,酯組分的分析;

• TCD 1分析通道可分析濃度大于500 ppm(V)的H 2 S;

• TCD 2通道為低含量H 2 組分分析通道;

• 氧化物通道可替換成硫化物分析通道(FPD檢測器),實(shí)現(xiàn)對低含量含硫組分的分析檢測,對應(yīng)的方案號為KNV-CMC0099。

 

 

 

 

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