表面处理设备UV 清洗重整器 [Tabletop 转盘]
185nm 与 254nm 光技术凭借短波长高能特性，可精准靶向分解纳米级有机污染物，如光刻胶残留、油脂、聚合物杂质等，实现半导体、光学元件等精密器件的超净表面清洁。在材料表面处理领域：
树脂基材优化：通过光子能量激活树脂表面分子，显著提升表面润湿性，使粘合剂、油漆、涂层的附着力提升 30%-50%，适用于汽车零部件、电子封装等粘结场景；
全基材预处理：广泛适配金属（如不锈钢、铝合金）、玻璃、陶瓷等材质，完成表面活化、粗糙化改性，替代传统化学蚀刻工艺，减少污染排放；
精密制造场景：在半导体光刻环节实现光刻胶灰化（Ashing），以及电镀前的纳米级清洁，确保线路图形精度与镀层结合力。
操作智能化：集成自动化控制系统，一键启动紫外线处理流程，无需复杂参数调试，降低人工操作门槛；
灵活尺寸适配：200×200mm 矩形照射区域，既满足实验室级小批量样品研发测试，又可嵌入小型生产线，实现日均千件级量产处理；
均匀处理保障：搭载 360° 可旋转工作台，配合匀光透镜技术，使紫外光辐照均匀性达 ±5%，避免局部过曝或处理不足，尤其适合曲面、异形件表面的一致性处理。
该技术以 “高效净化 + 精准改性 + 智能易用" 为核心，为半导体、光学制造、新能源等领域提供绿色、高精度的表面处理解决方案。
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