MIKASA米卡萨旋转涂布机为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。
MIKASA米卡萨旋转涂布机
日本MIKASA米卡萨株式会社 日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗鈽機，真空泵 半导体制造工序中的Mikasa半导体设备
晶园、洗涤**晶园表面的脏污及
各种金属离子、成膜
在高温扩散炉中，形成、表面氧化膜
电路图案设计、运用CAD制作布局、布线
设计图。制作光掩膜
将电路图案冲印到中间掩、模上(原版照片)
光刻胶涂布、将光刻胶(感光材料)涂抹到晶
圆表面，形成厚度均一的薄膜。
旋转涂膜仪(P4~P11) 将光掩膜与晶园重合，复制电路
图案。
光刻机(P13~P15)
MIKASA米卡萨旋转涂布机可选组件
显影、去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
显影装置(P17. 18)、蚀刻
通过腐蚀氧化膜来蚀刻电路。
蚀刻装置(P19)
离子注入/溅射
向晶园注入离子(混杂物)
滴液装置可选组件 吸盘
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密闭型)
●MS-B300 (密闭型)
日本MIKASA光刻机
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光，将光掩膜与晶园重合，复制电路图案。
日本MIKASA显影、蚀刻装置DeveloperEtching
日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150现货现货旋转涂膜仪
去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蚀刻装置
蚀刻装置
●ED-1200
●ED-3000
日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等，从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问不仅销售设备，而是为客户半导体制造的整体工艺流程。将光刻胶(感光材料)涂抹到晶圆表面，形成厚度均一的薄膜。
日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，晶圆涂抹提供一站式服务。
日本Mikasa 半导体用设备 旋涂机
MS-B100
MS-B150
MS-B200
MS-B300
MS-B200
密閉型MS-B300
密閉型MA-20
MA-10B
MA-60F
M-2LF
M-1S
AD-1200
AD-3000
ED-1200
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