中村供货：日本USHIO牛尾投影式光刻机UX-44101SC

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高解析度：采用专业开发的高输出灯以及光学技术设计的投影镜片，能够实现高效率的高解析度曝光，可满足精细图案的光刻需求。

大口径投影镜片：配备大口径投影镜片，大幅提高良品率，并达到高产能（Throughput）。

深焦点深度：焦点深度较深，厚膜光阻与变形胶卷均能适用，也可对非平面晶圆进行适当曝光，有助于提高生产效率和产品良率。

自动对焦机能：具备自动对焦功能，可因应胶带伸缩等情况，达到高重叠度，保证图案对准精度。

适用多种基板和胶卷：适用于多种类型的基板，如玻璃基板、陶瓷基板、印刷电路板等，也能处理宽幅及薄型胶卷，胶卷宽度最大可达 165mm，厚度为 25μm（PI）。

高精度定位：采用TTL 非曝光波长对准系统，通过图像处理分别检测并固定掩模和工件的对准标记在 xy 坐标轴上，即使是整体涂铬的小掩模，也能轻易识别工作记号，并且能通过选择照明方式和波长提高低对比度标记的可见度，还能自动检测基板伸缩导致的图案变化并调整投影倍率，最大调整范围为 ±0.1%，在没有特定对准标记时，也可通过图像识别对各种布线图案进行对准，另外还有多种对准算法可供选择以适应不同类型的对准标记。

掩模损伤小：投影曝光方式无需掩模与工件接触，可避免掩模损伤，同时，自动掩模传输功能有助于减少因人为失误导致的掩模损坏或工作类型错误，并且能够在掩模盒中移动和安装掩模，防止颗粒附着。

高均匀性照明：照明光学系统能有效集中光源发出的光，以高度均匀、高平行的方式照射掩模，通过在镜面上实施特殊涂装，可选择曝光波长并阻隔热线。

多种曝光方式支持：有多种高精度传输系统可适应不同工件，如硅晶圆、柔性基板和印刷电路板等，还具备可进行批量曝光的大面积曝光场以及适用于更大工作区域的步进 - 重复曝光台，以支持各种曝光需求，实现高效稳定的处理。

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