日本MICRO微方UVC深紫外UVC40x36斑点照射用

日本MICRO微方UVC深紫外UVC40x36斑点照射用

技术核心与创新设计

日本MICRO微方UVC40x36深紫外照射器采用第四代UVC-LED阵列技术，通过光学透镜系统实现40mm×36mm矩形区域的±5%照度均匀性（10mm工作距离）。设备支持265nm、280nm、365nm、385nm、405nm五波段可选，其中UVC波段（265-280nm）峰值辐照度达400mW/cm2，UV-A波段（365-405nm）最高可达500mW/cm2。内置闭环水冷系统可将LED结温控制在45℃以下，确保2000小时光衰小于3%。

?？榛杓圃市?台设备并联扩展至70×40mm照射范围，配备M4螺纹孔与磁吸底座，兼容机械臂集成或手持操作。整机重量1.4kg，IP54防护等级适应工业环境，10,000小时寿命显著降低耗材成本。

行业应用解决方案

1. 电子制造领域
   在PCB板件?；つす袒校?65nm波段可实现3秒内完成0.1mm厚胶层固化，同时灭活表面99%以上大肠杆菌（40mJ/cm2剂量）。微型摄像头模组粘接时，365nm波段配合0.5mm光斑附件精准定位，避免CMOS传感器热损伤。

2. 医疗设备生产
   用于内窥镜密封胶固化时，280nm波段同步破坏生物膜DNA结构，达到ISO 15858标准要求的消毒效果。相较传统汞灯方案，能耗降低60%且无臭氧排放。

3. 科研与微加工
   在微流控芯片键合实验中，405nm波段透过PDMS材料直达粘接界面，5秒内完成20×20mm区域固化，键合强度达2.5MPa以上。

市场差异化价值

与同类产品相比，UVC40x36"固化+消毒"双模式：

• 工业模式：Focus模式输出聚焦光束（中心照度提升30%）

• 卫生模式：Wide模式扩大照射角至60°实现表面灭菌

设备通过CE、RoHS认证，配套智能控制器可预设100组照射参数，历史数据追溯功能满足GMP合规要求。作为MICRO微方工业UV产品线的机型，其兼顾精密加工与卫生安全的特性，已广泛应用于日东电工、索尼半导体等制造场景。