当前位置:北京瑞科中仪科技有限公司>>沉积系统>> 电浆辅助式化学气相沉积设备
价格区间 | 面议 | 应用领域 | 环保,生物产业,制药/生物制药,综合 |
---|
电浆辅助式化学气相沉积设备(PECVD)是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術,可為沉積反應提供一些能量。與傳統的CVD方法相比,PECVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。
电浆辅助式化学气相沉积设备PECVD比半導體行業中的其他CVD技術更廣泛地使用,且可以在較低的工作溫度(低於350°C)下沉積薄膜,並具有不同形狀的均勻沉積與良好的覆蓋率。SYSKEY的系統可以精準的控制製程氣體與監控其數據(壓力、載台溫度),並提供高品質的薄膜。
我們也開發不同機器但共用零組件,以達到節省成本。
應用领域 | 腔體 |
|
|
配置和優點 | 選件 |
|
|
请输入账号
请输入密码
请输验证码
以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责,化工仪器网对此不承担任何保证责任。
温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。