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玉崎科學(xué)儀器（深圳）有限公司
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XHEMIS TX-3000半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線(xiàn)光譜儀
| 參考價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- XHEMIS TX-3000 產(chǎn)品型號(hào)
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
|---|
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線(xiàn)光譜儀
TXRF光譜儀
超快速金屬污染測(cè)繪
兼容最大 300mm 晶圓
產(chǎn)品介紹
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線(xiàn)光譜儀
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線(xiàn)光譜儀
XHEMIS TX-3000 概述
典型元素的檢測(cè)限 (LLD)
| 檢測(cè)限LLD（E10原子/cm2） | 鋁 | 鐵 | 鎳 | 銅 |
| 發(fā)射光譜 | 14 | 0.06 | 0.06 | 0.09 |
測(cè)量時(shí)間：1000秒
XHEMIS TX-3000 規(guī)格
| 方法 | 全內(nèi)反射X射線(xiàn)熒光分析（TXRF） | |
|---|---|---|
| 目的 | 快速無(wú)損測(cè)量痕量元素表面污染（Na - U） 將繪圖速度提高約 3 倍 E9 原子/cm2 的檢測(cè)極限 | |
| 技術(shù) | 高靈敏度金屬污染分析 | |
| 主要部件 | 3 探測(cè)器配置 高功率 W 對(duì)陰極 X 射線(xiàn)源（9 kW 旋轉(zhuǎn)對(duì)陰極） 針對(duì)輕元素、過(guò)渡元素和重元素優(yōu)化的 3 種激發(fā)能量 XYθ 樣品臺(tái) 2 個(gè) FOUP 裝載端口 | |
| 特征 | 全晶圓映射 (SWEEPING-TXRF)、零邊緣排除 (ZEE-TXRF) | |
| 選項(xiàng) | 背面分析 (BAC-TXRF)、GEM300 軟件、E84/OHT 支持 | |
| 機(jī)身尺寸 | 1280（寬）×3750（深）×2040（高） （不含監(jiān)視器和信號(hào)塔） | |
| 測(cè)量結(jié)果 | 定量結(jié)果、光譜圖、彩色等高線(xiàn)圖、映射表 | |
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