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一、產(chǎn)品介紹：CIF推出全新一代實驗室型等離子體清洗設備，傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念，可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件，幾乎具備等離子體清洗設備所有的功能

一、產(chǎn)品介紹：

CIF推出全新一代實驗室型等離子體清洗設備，傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念，可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件，幾乎具備等離子體清洗設備所有的功能。采用頂置真空倉，上開蓋下壓式鉸鏈開關(guān)方式，上置式360度自由取放樣品托盤設計，具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低，性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

二、產(chǎn)品特點

u 7寸彩色觸摸屏互動操作界面，圖形化用戶操作界面顯示，自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序，可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù)，機器運行、停止提示。

u PLC工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

u 石英真空倉，真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

u 采用質(zhì)量流量計實現(xiàn)對氣體輸入精準控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準確問題。

u HEPA高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

u 60度傾角操作界面設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

u 頂置真空倉，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關(guān)方式，開關(guān)蓋方便。

u 采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

u 上置式360度自由水平取放樣品托盤設計，符合人體功能學，操作更方便。

u 有效清洗面積大，可清洗直徑8寸硅片。

u 可處理不同幾何形狀、表面不同粗糙程度的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等樣品，進行清洗和改性。

u 安全保護，倉門打開，自動關(guān)閉電源。

三、技術(shù)參數(shù)

型號	CPC-G	CPC-G plus	CPC-12	CPC-12plus
艙體尺寸	H120xΦ270mm	H120xΦ270mm	H120xΦ370mm	H120xΦ370mm
艙體容積	6.8L	6.8L	12.8L	12.8L
射頻電源	40KHz	13.56MHz	40KHz	13.56MHz
匹配器	自動匹配	自動匹配	自動匹配	自動匹配
激發(fā)方式	電容式	電容式	電容式	電容式
射頻功率	10-300W可調(diào)	10-150W可調(diào)	10-600W可調(diào)	10-300W可調(diào)
處理尺寸	Φ270mm 圓盤		Φ370mm圓盤
產(chǎn)品尺寸	L525xW425xH345mm		L618xW520xH465mm
包裝尺寸	L645xW540xH560mm		L750xW640xH570mm
氣體控制	質(zhì)量流量計（MFC）（標配單路，可選雙路）
時間設定	1-99分59秒
真空泵	抽速4-8m3/h
氣體穩(wěn)定時間	1分鐘
真空度	100pa以內(nèi)
電源	AC220V 50-60Hz

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