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超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100
  • 超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100

貨物所在地:遼寧大連市

更新時間:2025-02-05 21:00:07

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超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進行測試。首先激光打在樣品上,樣品表面會產(chǎn)生一定 程度的損毀,由于本過程很快(ps量級)因此單使用相機連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個損毀的過程。

超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進行測試。首先激光打在樣品上,樣品表面會產(chǎn)生一定 程度的損毀,由于本過程很快(ps量級)因此單使用相機連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個損毀的過程。在本儀器中,當(dāng)每一次激光打在樣品后,便可通過延遲線調(diào)節(jié)兩個光脈沖之間的延遲,從而分別采集激光打在樣品后不同時刻樣品損毀情況。


超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要技術(shù)指標(biāo) 

檢測模式

超快光損傷/等離子濺射

時間窗口范圍

8 ns

探測器類型

ICCD,門控時間3 ns

探測時間分辨率

1.5倍激光脈寬

激發(fā)光聚焦鏡頭

20X/50X 可選

樣品移動方式

全自動樣品二維電控移動平臺

軟件功能

數(shù)據(jù)采集/分析軟件

超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100

超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100

本功能主要利用相機的門采集功能以及延遲來采集不同時刻,樣品等離子體濺射過程。整個測試流程是激光聚焦打在樣品上,樣品會產(chǎn)生等離子體此時相機的曝光時間固定,曝光時間就相當(dāng)于一個“門",再通過時序來調(diào)節(jié)“門"相對于激光打在樣品上的時間為0來進行延遲,從而分別拍出不同時間等離子體的濺射過程。


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